[发明专利]粒子射线照射装置及粒子射线治疗装置

权利要求书

1.一种粒子射线照射装置，该粒子射线照射装置向照射对象照射由加速器进行加速且由扫描电磁铁进行扫描的带电粒子束，其特征在于，包括：

磁场传感器，该磁场传感器对所述扫描电磁铁的磁场进行测定；以及

照射控制装置，该照射控制装置基于由所述磁场传感器所测定的测定磁场和所述带电粒子束的目标照射位置坐标，对所述扫描电磁铁进行控制，

所述照射控制装置具有：逆映射运算器，该逆映射运算器根据所述带电粒子束的目标照射位置坐标运算出目标磁场；以及

补偿器，该补偿器输出对所述扫描电磁铁的控制输入，该控制输入将所述目标磁场与所述测定磁场的磁场误差控制在规定的阈值以下。

2.如权利要求1所述的粒子射线照射装置，其特征在于，

包括剂量监视器，该剂量监视器对所述带电粒子束的剂量进行测定，

所述照射控制装置具有剂量管理器，该剂量管理器基于由所述剂量监视器所测定的测定剂量及目标剂量，针对将所述照射对象分割而得到的每个小区域，进行照射剂量的管理。

3.如权利要求2所述的粒子射线照射装置，其特征在于，

所述剂量管理器所管理的所述小区域是在由所述磁场传感器所测定的X方向及Y方向的磁场中定义的区域。

4.如权利要求1至3的任一项所述的粒子射线照射装置，其特征在于，

所述磁场传感器具有拾取线圈。

5.如权利要求4所述的粒子射线照射装置，其特征在于，

所述拾取线圈所具有的长度为所述带电粒子束的前进方向上的所述扫描电磁铁的铁心长度以上。

6.如权利要求1至5的任一项所述的粒子射线照射装置，其特征在于，

所述逆映射运算器包括所述目标照射位置坐标的多项式。

7.如权利要求1至6的任一项所述的粒子射线照射装置，其特征在于，

包括射束位置监视器，该射束位置监视器对所述带电粒子束的位置进行测定，

所述照射控制装置具有逆映射生成器，该逆映射生成器基于由所述射束位置监视器所测定的测定位置坐标及由所述磁场传感器所测定的测定磁场，生成所述逆映射运算器的数学式模型。

8.如权利要求1至7的任一项所述的粒子射线照射装置，其特征在于，

所述补偿器是PID补偿器。

9.一种粒子射线治疗装置，其特征在于，包括：

射束产生装置，该射束产生装置产生带电粒子束；

加速器，该加速器对由所述射束产生装置所产生的所述带电粒子束进行加速；

射束输送装置，该射束输送装置输送由所述加速器进行了加速的带电粒子束；以及

粒子射线照射装置，该粒子射线照射装置用扫描电磁铁对由所述射束输送装置输送的带电粒子束进行扫描，以向照射对象进行照射，

所述粒子射线照射装置是如权利要求1至8的任一项所述的粒子射线照射装置。