[发明专利]适用于有大平移的流体环形密封系统

权利要求书

1.一种环形密封系统，用于通过带圆周外表面的转轮和包含多个环形垫片的密封圈将高压区与低压区密封隔离，所述环形垫片设于所述圆周外表面的周围，其特征在于包括：

多个沿所述圆周外表面独立设置的凹槽组，每个所述凹槽组包括至少两个凹槽，当所述转轮沿着与所述转轮旋转方向大致垂直的基线移向所述密封圈时，每一个所述凹槽组内至少有一个凹槽将来自所述高压区的流体传送到所述密封圈上，所述流体在所述密封圈和所述转轮之间产生一个举力。

2.根据权利要求1所述的环形密封系统，其特征在于：至少一个所述凹槽组内的所述凹槽呈基本平行的设置。

3.根据权利要求1所述的环形密封系统，其特征在于：每个所述凹槽组进一步包括一个补给槽，所述补给槽将所述流体传送到各个所述凹槽内。

4.根据权利要求3所述的环形密封系统，其特征在于：所述补给槽垂直于所述凹槽组内的凹槽。

5.根据权利要求3所述的环形密封系统，其特征在于：所述补给槽相对于所述凹槽组内的凹槽呈角度设置。

6.根据权利要求1所述的环形密封系统，其特征在于：相邻的所述凹槽组含有的凹槽数量不同。

7.根据权利要求6所述的环形密封系统，其特征在于：具有x个凹槽的所述凹槽组被相间放置在具有x+y个凹槽的所述凹槽组之间，其中的x和y是大于0的整数。

8.根据权利要求1所述的环形密封系统，其特征在于：相邻的所述凹槽组之间的所述凹槽被偏移设置。

9.根据权利要求1所述的环形密封系统，其特征在于：至少一个所述凹槽组内的所述凹槽平行于所述转轮的旋转方向。

10.根据权利要求1所述的环形密封系统，其特征在于：至少一个所述凹槽组内的所述凹槽相对于所述转轮的旋转方向倾斜设置。

11.根据权利要求10所述的环形密封系统，其特征在于：所述凹槽的长度，即所述凹槽的有效宽度应等于或小于所述密封圈支撑面的宽度，以中断从所述高压区进入所述低压区的所述流体的传输路径。

12.根据权利要求1所述的环形密封系统，其特征在于：每个凹槽组内的所述凹槽具有不同的长度或被设置在所述圆周外表面上，从而至少有一个凹槽具有足够的长度，使得在所述转轮平移前产生所述举力，并且至少有另一个凹槽具有足够的长度，使得在所述转轮平移时产生所述举力。

13.根据权利要求1所述的环形密封系统，其特征在于：最多每隔一个所述凹槽组，就有至少一个可将所述流体传送到所述密封圈上的凹槽。

14.根据权利要求1所述的环形密封系统，其特征在于：至少一个所述凹槽组将所述流体传送到所述环形垫片上。

15.根据权利要求1所述的环形密封系统，其特征在于：所述密封圈包括一个孔槽挡板和一个与所述圆周外表面相邻的内孔槽。

16.根据权利要求1所述的环形密封系统，其特征在于：所述密封圈被设置在一个密封装置中。

17.根据权利要求1所述的环形密封系统，其特征在于：所述环形密封系统被设置在一个涡轮发动机中。

18.根据权利要求17所述的环形密封系统，其特征在于：使用在涡轮发动机内的所述环形密封系统，能够在出现低压或反转气压条件时防止泄露。

19.一种通过带圆周外表面的转轮和设置在所述圆周外表面上的含有多个环形垫片的密封圈将高压区与低压区密封隔离的方法，其特征在于方法包括以下步骤：

(a)将流体从高压区引入多个独立设置于所述圆周外表面上的凹槽组内，每个所述凹槽组包括至少两个凹槽；

(b)当所述转轮沿着与所述转轮旋转方向大致垂直的基线移向所述密封圈时，将所述流体从各个所述凹槽组内的至少一个凹槽中传送到所述密封圈上；

(c)借助含有所述流体的密封圈所产生的举力，所述密封圈相对于所述圆周外表面作径向移动。

20.根据权利要求19所述的方法，其特征在于：每个凹槽组内的所述凹槽具有不同的长度或被设置在所述圆周外表面上，从而至少有一个凹槽具有足够的长度，使得在所述转轮平移前产生所述举力，并且至少有另一个凹槽具有足够的长度，使得在所述转轮平移时产生所述举力。