[发明专利]搅拌装置有效
申请号: | 200980162075.7 | 申请日: | 2009-10-23 |
公开(公告)号: | CN102574080A | 公开(公告)日: | 2012-07-11 |
发明(设计)人: | 北吉雅则;惠比根美明;杉原敦史;小林极;河野贵志;中根靖幸;丸田兼州 | 申请(专利权)人: | 丰田自动车株式会社 |
主分类号: | B01F7/16 | 分类号: | B01F7/16;H01M4/139 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 段承恩;杨光军 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 搅拌 装置 | ||
技术领域
本发明涉及搅拌装置,特别涉及能够用于搅拌混合电极活性物质、导电材、粘结材、溶剂等的搅拌装置。
背景技术
作为该搅拌装置,有具备圆筒形状的搅拌槽与大致圆筒形状的搅拌构件的搅拌装置,所述搅拌构件具有比搅拌槽的内径小的外径,相对于搅拌槽的内周面同心圆状地旋转。该搅拌构件在圆筒部分上贯通形成有多个半径方向的小孔。在该搅拌装置中,搅拌构件在相对于搅拌槽的内周面维持很小的间隙的状态下高速旋转。在向搅拌槽供给的被处理材料上,伴随着搅拌构件的高速旋转而作用有离心力。被处理材料通过离心力而从形成于搅拌构件的小孔向外径方向挤出,在搅拌构件的外周面与搅拌槽的内周面之间扩展成薄膜圆筒形状。此时,通过被处理材料的表面与搅拌槽的内周面之间对被处理材料进行搅拌。而且,被充分搅拌而粘度下降了的被处理材料通过离心力的作用而向搅拌槽的上部移动,从搅拌槽的上部排出。
该搅拌装置在例如日本国专利申请公开平成11-347388号(专利文献1)、日本国专利申请公开2005-129482号(专利文献2)、日本国专利申请公开2006-236658号(专利文献3)、日本国专利申请公开2007-125454号(专利文献4)中有所公开。
在先技术文献
专利文献
专利文献1:日本国专利申请公开平成11-347388号
专利文献2:日本国专利申请公开2005-129482号
专利文献3:日本国专利申请公开2006-236658号
专利文献4:日本国专利申请公开2007-125454号
发明内容
发明要解决的问题
但是,上述搅拌装置在向搅拌槽内供给被处理材料的状态下,通过使搅拌构件旋转而搅拌被处理材料。此时,搅拌装置通过在搅拌槽与搅拌构件之间被搅拌的被处理材料产生的摩擦而发热。但是,在锂离子二次电池中,使用在将电极活性物质、导电材、粘结材、溶剂等以预定的比例混合后通过搅拌装置搅拌的电极浆。在制造该电极浆时,通过搅拌装置搅拌将电极活性物质、导电材、粘结材、溶剂等混合而成的混合材料。此时,在向搅拌装置供给的初期,具有上述混合材料的粘度较高的情况。
本发明者为了高效搅拌该电极浆,讨论使用具备上述的圆筒形状的搅拌槽与在圆筒形状的搅拌槽内同心旋转的搅拌构件的搅拌装置。然而,如果使用该搅拌装置搅拌粘度较高的膏状的材料,则在被搅拌的材料与搅拌槽以及搅拌构件之间产生较大的摩擦,能够产生高温的热量。另外,如果要降低该发热,则处理效率变差。本发明者对于对该被处理材料进行搅拌的处理,希望抑制发热并且提高处理效率。
但是,本发明者得到下述的发现:为了在上述的搅拌装置抑制发热,优选扩大例如搅拌槽的内周面与搅拌构件的外周面的间隙。即,在扩大搅拌槽的内周面与搅拌构件的外周面的间隙时,能够混合在搅拌槽与搅拌构件之间被搅拌的被处理材料产生的摩擦,能够降低发热。然而,如果搅拌槽的内周面与搅拌构件的外周面的间隙较大,则搅拌处理的处理效率下降。与此相对,如果缩小搅拌槽的内周面与搅拌构件的外周面的间隙,则在搅拌槽与搅拌构件之间被搅拌的被处理材料产生的摩擦升高,被处理材料的温度显著上升。
另外,根据被处理材料,有时不能要求过度的搅拌处理。在这样的情况下,优选在某种程度搅拌后的阶段从搅拌槽排出,但没有提出能够抑制过度的搅拌处理的搅拌装置。本发明对于上述的搅拌装置,提出了与被处理材料所要求的处理相应的各种改变。
用于解决课题的方案
本发明中的搅拌装置,其中,具有:大致圆筒形状的搅拌槽;沿着搅拌槽的中心轴设置的旋转轴;大致圆筒形状的搅拌构件,其具有比搅拌槽的内径小的外径,以相对于搅拌槽的内周面同心圆状地旋转的方式安装于旋转轴;以及在搅拌构件的半径方向上贯通形成的多个通孔;搅拌槽的内周面与搅拌构件的外周面的间隙在搅拌构件的上下方向上部分地不同。在该搅拌装置中,搅拌槽的内周面与搅拌构件的外周面的间隙在搅拌构件的上下方向上部分地不同,所以能够适度搅拌被处理材料,并且适当抑制温度上升。
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