[发明专利]用于测量被检面的形状的装置和用于计算被检面的形状的程序有效

专利信息
申请号: 200980162497.4 申请日: 2009-11-19
公开(公告)号: CN102713507A 公开(公告)日: 2012-10-03
发明(设计)人: 山添贤治 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G01B11/24 分类号: G01B11/24;G01B9/02
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 康建忠
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 用于 测量 被检面 形状 装置 计算 程序
【权利要求书】:

1.一种测量装置,包括测量被检面的形状的测量单元和通过使用测量单元所获得的测量数据计算被检面的形状的计算单元,

其中,测量单元在被检面的一部分中设定多个测量区,并且以所述多个测量区中的每一个与其它测量区中的至少一个形成重叠区域的方式测量被检面的形状,并且,

其中,计算单元

读取测量单元所获得的测量区中的每一个的测量数据项,

将每一测量的测量误差表达为多项式,所述多项式包含具有值依赖于测量区的设定的系数的项和具有值不依赖于测量区的设定的系数的项,

通过向重叠区域的测量数据项中的每一个应用最小二乘法,获得关于所述多项式的系数的矩阵方程,

将重叠区域的所述多项式的各项的数据以及测量数据项中的每一个代入所述矩阵方程,

由已被代入该数据的所述矩阵方程的奇异值分解计算所述多项式的系数,并且,

通过使用被计算出的系数校正测量区的测量数据项中的每一个,并且通过使用已被校正的测量数据项在所述多个测量区中计算被检面的形状。

2.根据权利要求1的测量装置,其中,计算单元检测当已被校正的测量区的测量数据项被拼接在一起时产生数据的段差的区域,删除检测到段差的区域的数据,并且内插数据。

3.根据权利要求1的测量装置,其中,在所述矩阵方程中,在具有值不依赖于测量区的设定的系数的项中,关于x和y的二次项被去除,这里,x和y是正交坐标系的坐标轴。

4.一种用于通过使用关于被检面的形状的数据加工所述被检面的加工方法,该数据是通过根据权利要求1的测量装置获得的。

5.一种导致计算机计算被检面的形状的程序,该程序包括以下的步骤:

读取多个测量区中的每一个的测量数据项,测量数据项是通过在被检面的一部分中设定所述多个测量区并且以所述多个测量区中的每一个与其它测量区中的至少一个形成重叠区域的方式测量被检面的形状获得的;

将重叠区域的多项式的各项的数据以及测量数据项代入关于所述多项式的系数的矩阵方程,所述多项式表达了每一测量的测量误差,并且包含具有值依赖于测量区的设定的系数的项和具有值不依赖于测量区的设定的系数的项,所述矩阵方程是通过对于重叠区域的测量数据项中的每一个应用最小二乘法获得的;

由已被代入该数据的所述矩阵方程的奇异值分解计算所述多项式的系数;以及

通过使用均通过使用计算出的系数被校正的测量区的测量数据项,在所述多个测量区中计算被检面的形状。

6.根据权利要求5的程序,其中,在计算被检面的形状的步骤中,检测包含数据的段差的区域,所述段差是在已被校正的测量区的测量数据项被拼接在一起时产生的,消除包含段差的区域的数据,并且,内插数据。

7.根据权利要求5的程序,其中,在所述矩阵方程中,在具有值不依赖于测量区的设定的系数的项中,关于x和y的二次项被去除,这里,x和y是正交坐标系的坐标轴。

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