[发明专利]具有并行自适应滤波器配置的有源噪声控制系统有效
申请号: | 201010003225.4 | 申请日: | 2010-01-11 |
公开(公告)号: | CN101814905A | 公开(公告)日: | 2010-08-25 |
发明(设计)人: | 瓦森特·施里达;杜安·沃茨 | 申请(专利权)人: | 哈曼国际工业有限公司 |
主分类号: | H03H21/00 | 分类号: | H03H21/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 丁艺;沙捷 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 并行 自适应 滤波器 配置 有源 噪声 控制系统 | ||
1.一种有源噪声控制系统,包括:
多个自适应滤波器,每个自适应滤波器被配置为接收代表非期望声音的相同的输入信号,并接收各自的更新信号,其中,每个自适应滤波器被配置为具有各自不同的滤波器长度,使得各个自适应滤波器的对应的频率范围不同但是重叠,并且基于所述相同的输入信号的频率范围生成各自的输出信号,以及
多个学习算法单元,其被配置成全部共同并且直接接收相同的误差信号和滤波后的非期望声音信号,并且使用所述相同的误差信号和所述滤波后的非期望声音信号来为各个自适应滤波器中的每个独立地生成各自的更新信号,其中,所述各自的输出信号中的每个是由所述各个自适应滤波器基于从所述多个学习算法单元中的对应的一个接收到的所述各自的更新信号独立地调整的,并且其中,对所述各自的输出信号求和以形成抗噪声信号,所述抗噪声信号被配置为驱动扬声器以产生破坏性地干扰所述非期望声音的声波。
2.如权利要求1所述的有源噪声控制系统,其中,所述多个自适应滤波器包括第一自适应滤波器和第二自适应滤波器,所述第一自适应滤波器对应于第一预定频率范围,所述第二自适应滤波器对应于第二预定频率范围,其中,所述第一自适应滤波器配置为,当所述相同的输入信号包括所述第一预定频率范围内的主信号分量时,所述第一自适应滤波器比所述第二自适应滤波器更快地收敛。
3.如权利要求2所述的有源噪声控制系统,其中,所述第一自适应滤波器的输出信号和所述第二自适应滤波器的输出信号被相加在一起,以产生所述抗噪声信号,其中,当所述相同的输入信号的主信号分量在所述第一预定频率范围内时,与所述第二自适应滤波器的输出信号相比,所述第一自适应滤波器的输出信号是所述抗噪声信号中较主要的部分。
4.如权利要求2所述的有源噪声控制系统,其中,所述第一自适应滤波器的输出信号和所述第二自适应滤波器的输出信号被相加在一起,以产 生所述抗噪声信号,其中,当所述相同的输入信号的主信号分量在所述第一预定频率范围内时,与所述第二自适应滤波器的输出信号相比,所述第一自适应滤波器的输出信号是所述抗噪声信号中较次要的部分。
5.如权利要求2所述的有源噪声控制系统,其中,当所述相同的输入信号包括所述第二预定频率范围内的主信号分量时,所述第二自适应滤波器被配置为以比所述第一自适应滤波器更快的速率收敛。
6.如权利要求2所述的有源噪声控制系统,其中,所述第一预定频率范围与所述第二预定频率范围重叠。
7.如权利要求6所述的有源噪声控制系统,其中,所述输出信号中的每个是所述抗噪声信号的至少一部分。
8.如权利要求1所述的有源噪声控制系统,其中,所述各自的输出信号中的至少一个是由所述多个自适应滤波器中首先收敛的至少一个自适应滤波器生成的。
9.如权利要求1所述的有源噪声控制系统,其中,所述多个自适应滤波器包括具有第一滤波器长度的第一自适应滤波器,以及第二自适应滤波器,其具有不同于所述第一滤波器长度的第二滤波器长度。
10.如权利要求9所述的有源噪声控制系统,其中,所述第一滤波器长度对应于第一预定频率范围,所述第二滤波器长度对应于第二预定频率范围,并且其中,所述第一频率范围与所述第二频率范围重叠。
11.如权利要求9所述的有源噪声控制系统,其中,所述第一滤波器长度对应于第一预定频率范围,所述第二滤波器长度对应于第二预定频率范围,并且,当所述输入信号包括所述第一预定频率范围内的主信号分量时,所述第一自适应滤波器被配置为比所述第二自适应滤波器更快地收敛。
12.如权利要求1所述的有源噪声控制系统,其中,所述多个自适应滤波器分别被配置为接收所述输入信号的整个频率范围。
13.如权利要求1所述的有源噪声控制系统,其中,所述自适应滤波器中的至少一个用于在最接近非期望声音的频率范围内首先收敛,并产生抗噪声,所述抗噪声被配置为驱动扬声器以产生破坏性地干扰所述非期望声音的声波。
14.如权利要求1所述的有源噪声控制系统,其中,各个自适应滤波器用于在各自的预定频率范围内收敛到与所述各自的预定频率范围内的非期望声音相对应的抗噪声信号。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于哈曼国际工业有限公司,未经哈曼国际工业有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010003225.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:流体封入式防振装置
- 下一篇:光学存储介质的母版制作和复制