[发明专利]微光刻投影曝光系统的投影物镜的光学测量的测量系统

权利要求书

1.一种用于微光刻投影曝光系统的投影物镜的光学测量的测量系统，所述投影物镜被配置为将设置于所述投影物镜的目标面中的图案成像到所述投影物镜的图像面上，所述投影物镜被设计为浸没物镜，用于借助设置在所述投影物镜的目标侧和图像侧的至少一个上的浸液进行成像；其特征在于所述测量系统包括：

至少一个具有测量结构的结构载体，该结构载体被设置在浸液区域中，给该结构载体分配一个保护系统，以提高测量结构对由浸液导致的降解的抵抗力。

2.如权利要求1所述的测量系统，其特征在于其配置用于波前测量。

3.如权利要求1所述的测量系统，其特征在于其是干涉仪。

4.如权利要求1所述的测量系统，其特征在于包括：

具有目标侧测量结构的目标侧结构载体，设置在成像系统的目标侧上；

具有图像侧测量结构的图像侧结构载体，设置在成像系统的图像侧上；

该目标侧测量结构和该图像侧测量结构彼此以这种方式匹配：当目标侧测量结构借助于成像系统成像到图像侧测量结构上时，产生叠加图案；和

用于叠加图案的局部分辨采集的检测器；

其中提供所述目标侧结构载体和所述图像侧结构载体中的至少一个设置在浸液区域，给所述目标侧结构载体和所述图像侧结构载体中的至少一个分配一个保护系统以提高测量结构对由浸液导致的降解的抵抗力。

5.如权利要求4所述的测量系统，其中所述测量系统是干涉仪，并且所述叠加图案是干涉图案。

6.如权利要求1所述的测量系统，其特征在于被配置成设置在浸液区域中的所述结构载体包括基板，在基板上形成测量结构的涂层被涂敷在至少一个基板表面上。

7.如权利要求6所述的测量系统，其特征在于所述涂层由金属或金属合金构成。

8.如权利要求7所述的测量系统，其特征在于所述涂层由铬或含铬的金属构成。

9.如权利要求6所述的测量系统，其特征在于以这种方式相对于形成测量结构的涂层和基板施加所述保护系统：基板和保护系统以在所有面上都基本以不透液体的方式密封涂层。

10.如权利要求1所述的测量系统，其特征在于所述保护系统包括至少一层对测量辐射透明的保护层。

11.如权利要求1所述的测量系统，其特征在于所述保护系统由施加在该测量结构上的保护层单独形成。

12.如权利要求10所述的测量系统，其特征在于所述保护层由对测量辐射透明的单一材料层形成。

13.如权利要求10所述的测量系统，其特征在于所述保护层包括至少一层基本上不透浸液的阻挡层。

14.如权利要求13所述的测量系统，其特征在于所述阻挡层由至少一种阻挡层材料构成，该阻挡层材料对浸液基本是耐化学腐蚀的且基本上没有从背向测量结构的阻挡层的外侧穿过到面向测量结构的阻挡层侧的孔。

15.如权利要求10所述的测量系统，其特征在于所述保护层是单层二氧化硅。

16.如权利要求15所述的测量系统，其特征在于所述单层二氧化硅具有在约30nm至约100nm之间的几何层厚度。

17.如权利要求10所述的测量系统，其特征在于所述保护层包括一层叠于另一层上的多个材料层。

18.如权利要求10所述的测量系统，其特征在于所述保护层设计为用于在保护层和浸液之间形成的固-液界面的反射减小层。

19.如权利要求10所述的测量系统，其特征在于所述保护层是形成测量结构的金属涂层的电镀涂层，且由对于浸液而言比所述涂层的材料更加化学稳定的金属制成。

20.如权利要求10所述的测量系统，其特征在于所述保护层以钝化层的方式由形成测量结构的金属涂层的材料的反应产物形成，其对于浸液而言比涂层的材料更加化学稳定。

21.如权利要求10所述的测量系统，其特征在于相对于由于形成测量结构的下涂层的可能形状偏差，所述保护层以这种方式校正：用作辐射入口表面的保护层外侧是平面。