[发明专利]一种用于表征铁电薄膜光电流的测量方法有效

专利信息
申请号: 201010018160.0 申请日: 2010-01-15
公开(公告)号: CN101776709A 公开(公告)日: 2010-07-14
发明(设计)人: 郑分刚;沈明荣;方亮 申请(专利权)人: 苏州大学
主分类号: G01R19/00 分类号: G01R19/00
代理公司: 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 代理人: 陶海锋
地址: 215123江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 表征 薄膜 电流 测量方法
【权利要求书】:

1.一种用于表征铁电薄膜光电流的测量方法,其特征在于:包括下列步 骤:

(1)在铁电薄膜上分别设置上电极和下电极,构成金属/薄膜/金属电容器结 构;

(2)在上述电容器结构上施加外加电场,以极化薄膜;

(3)撤除外加电场,用光源从薄膜上方照射样品表面,采集记录稳定的光电 流的大小;

(4)重复步骤(2)和(3),分别记录在不同的极化电压下的光电流大小;

(5)以极化电压为横坐标,对应的光电流为纵坐标,将记录的光电流绘制成 光电流回线;

(6)光电流回线的纵向对称中心处的电流值用PC0表示,如果PC0为正, 则下界面肖特基势垒大于上界面肖特基势垒,如果PC0为负,则上界面肖特 基势垒大于下界面肖特基势垒,如果PC0等于零,则上下界面肖特基势垒是 对称的;

所述步骤(4)中,不同的极化电压的施加次序为,由正向最大值逐渐减小至 反向最大值,再逐渐增大至正向最大值。

2.根据权利要求1所述的用于表征铁电薄膜光电流的测量方法,其特征 在于:所述步骤(3)中,每次测量等待光电流稳定的时间相同。

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