[发明专利]一种构造铁电薄膜材料表面形貌的方法无效
| 申请号： | 201010022795.8 | 申请日： | 2010-01-14 |
| 公开（公告）号： | CN101786599A | 公开（公告）日： | 2010-07-28 |
| 发明（设计）人： | 沈臻魁;陈志辉;卢茜;刘冉 | 申请（专利权）人： | 复旦大学 |
| 主分类号： | B82B3/00 | 分类号： | B82B3/00 |
| 代理公司： | 上海正旦专利代理有限公司 31200 | 代理人： | 陆飞;盛志范 |
| 地址： | 20043*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 构造 薄膜 材料 表面 形貌 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种构造铁电薄膜材料表面形貌的方法，其特征在于通过压印技术加压力于铁电薄膜材料，在构造铁电薄膜材料表面形貌的同时实现铁电薄膜电畴自发极化方向取向有序化分布，具体的步骤包括：
(1)在衬底上淀积铁电薄膜材料；
(2)用表面具有一定形貌的压印模具压印铁电薄膜材料，在铁电薄膜材料表面形成相应形貌；
(3)对被压印过的铁电薄膜材料进行热退火。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述的压印模具压印铁电薄膜材料从而形成薄膜表面形貌的方法为纳米压印或机械压印。
3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于：所述铁电薄膜材料为锆钛酸铅、钛酸锶铋、钛酸铋镧、钛酸钡锶或聚偏二氟乙烯基。
4.根据权利要求1所述的方法，，其特征在于：所述在衬底上淀积铁电薄膜材料的方法为旋涂或滴定方法。
5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于所述的衬底为硅，铂，钌，铱，铬，金，氧化铱或玻璃。
6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于所述的热退火温度为600℃~700℃。
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