[发明专利]电沉积制备Ni-Co-Mo三元合金镀层的工艺方法无效
申请号: | 201010023127.7 | 申请日: | 2010-01-21 |
公开(公告)号: | CN101748452A | 公开(公告)日: | 2010-06-23 |
发明(设计)人: | 吕春雷;曹为民;赵永刚;杜美 | 申请(专利权)人: | 上海大学 |
主分类号: | C25D3/56 | 分类号: | C25D3/56 |
代理公司: | 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 | 代理人: | 顾勇华 |
地址: | 200444*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 沉积 制备 ni co mo 三元 合金 镀层 工艺 方法 | ||
1.一种电沉积制备Ni-Co-Mo三元合金镀层的电镀液,其特征在于该电镀液具有以下的组成及重量含量:
Ni 30~60g/L;选自硫酸镍,氨基磺酸镍中的任一种;
Co 1~10g/L;选自硫酸钴、氨基磺酸钴中的任一种;
Na2MoO4·2H2O 2~20g/L;
硼酸 20~50g/L;
有机酸 80~200g/L;选自柠檬酸,酒石酸的任一种或两种;
有机酸与全部金属离子的摩尔量比,即有机酸∶全部金属离子=1.1∶1;
电镀液的pH值为1~5;用相应酸或氢氧化钠进行调节;
电镀液的温度为50±5℃。
2.如权利要求1所述的一种电沉积制备Ni-Co-Mo三元合金镀层的电镀液,其特征在于该电镀液的优选配方如下:
Ni 40~50g/L;
Co 3~5g/L;
Na2MoO4·2H2O 5~15g/L;
硼酸 25~35g/L;
有机酸 100~150g/L;
有机酸与全部金属离子的摩尔质量比,即有机酸∶全部金属离子=1.1∶1;
电镀液的pH值为2~3.5;用相应酸或氢氧化钠进行调节;
电镀液的温度为50℃。
3.一种电沉积制备Ni-Co-Mo三元合金镀层的工艺方法,其特征在于用传统常规采用的电镀方法,其主要工艺条件如下:
(1)、阴极,即电镀基材,所用的电镀基材为铜基合金,即Cu-Cr-Zr合金,其中重量百分比为:Cu>98%,Cr 0.5~1.5%,Zr 0.08~0.30%;
(2)、阳极,阳极为S-nickel(INCO corporation),即含硫活性镍饼;
(3)、直流稳压电流,电镀时的电流密度为4A/dm2;
(4)、电镀温度为50~60℃;
(5)、电镀时间为5~6小时;在机械或搅拌下进行;
作为传统常规的电镀工艺流程如下:
铜合金基材(Cu-Cr-Zr)—机械整平—焊接导线—非镀面绝缘—打磨—除油—水洗—前处理液浸蚀(毛心表面)—水洗—活化—电镀(在电镀液槽中)—水洗—镀后处理。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海大学,未经上海大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010023127.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。