[发明专利]电沉积制备Ni-Co-Mo三元合金镀层的工艺方法无效

专利信息
申请号: 201010023127.7 申请日: 2010-01-21
公开(公告)号: CN101748452A 公开(公告)日: 2010-06-23
发明(设计)人: 吕春雷;曹为民;赵永刚;杜美 申请(专利权)人: 上海大学
主分类号: C25D3/56 分类号: C25D3/56
代理公司: 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 代理人: 顾勇华
地址: 200444*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 沉积 制备 ni co mo 三元 合金 镀层 工艺 方法
【权利要求书】:

1.一种电沉积制备Ni-Co-Mo三元合金镀层的电镀液,其特征在于该电镀液具有以下的组成及重量含量:

Ni              30~60g/L;选自硫酸镍,氨基磺酸镍中的任一种;

Co              1~10g/L;选自硫酸钴、氨基磺酸钴中的任一种;

Na2MoO4·2H2O   2~20g/L;

硼酸            20~50g/L;

有机酸          80~200g/L;选自柠檬酸,酒石酸的任一种或两种;

有机酸与全部金属离子的摩尔量比,即有机酸∶全部金属离子=1.1∶1;

电镀液的pH值为1~5;用相应酸或氢氧化钠进行调节;

电镀液的温度为50±5℃。

2.如权利要求1所述的一种电沉积制备Ni-Co-Mo三元合金镀层的电镀液,其特征在于该电镀液的优选配方如下:

Ni              40~50g/L;

Co              3~5g/L;

Na2MoO4·2H2O   5~15g/L;

硼酸            25~35g/L;

有机酸          100~150g/L;

有机酸与全部金属离子的摩尔质量比,即有机酸∶全部金属离子=1.1∶1;

电镀液的pH值为2~3.5;用相应酸或氢氧化钠进行调节;

电镀液的温度为50℃。

3.一种电沉积制备Ni-Co-Mo三元合金镀层的工艺方法,其特征在于用传统常规采用的电镀方法,其主要工艺条件如下:

(1)、阴极,即电镀基材,所用的电镀基材为铜基合金,即Cu-Cr-Zr合金,其中重量百分比为:Cu>98%,Cr 0.5~1.5%,Zr 0.08~0.30%;

(2)、阳极,阳极为S-nickel(INCO corporation),即含硫活性镍饼;

(3)、直流稳压电流,电镀时的电流密度为4A/dm2

(4)、电镀温度为50~60℃;

(5)、电镀时间为5~6小时;在机械或搅拌下进行;

作为传统常规的电镀工艺流程如下:

铜合金基材(Cu-Cr-Zr)—机械整平—焊接导线—非镀面绝缘—打磨—除油—水洗—前处理液浸蚀(毛心表面)—水洗—活化—电镀(在电镀液槽中)—水洗—镀后处理。

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