[发明专利]一种高析氢催化活性非晶镀层及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201010034148.9 申请日: 2010-01-15
公开(公告)号: CN102127776A 公开(公告)日: 2011-07-20
发明(设计)人: 尉海军;王国庆;朱磊;简旭宇;王忠;蒋利军 申请(专利权)人: 北京有色金属研究总院
主分类号: C25B11/06 分类号: C25B11/06;C22C45/00;C22C45/02;C25D3/56
代理公司: 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 代理人: 程凤儒
地址: 100088*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 高析氢 催化 活性 镀层 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种高析氢催化活性非晶镀层,其特征在于,在金属基体上镀有合金镀层,该合金镀层是由Ni、Mo和Co三元合金元素组成,重量百分比例分别为Ni:20-50%,Mo:10-40%,其余为钴。

2.按照权利要求1所述的一种高析氢催化活性镀层,其特征在于:所述的合金镀层为非晶结构,厚度为2-8μm。

3.一种高析氢催化活性非晶镀层制备方法,其特征在于,采用电沉积方法在金属基体上电沉积上一层厚度为2-8μm的非晶镀层,该非晶镀层是由Ni、Mo和Co三元合金元素组成,重量百分比例分别为Ni:20-50%,Mo:10-40%,其余为钴。

4.按照权利要求3所述一种高析氢催化活性非晶镀层制备方法,其特征在于,电沉积方法所采用的镀液组成为:NiSO4·6H2O 40~80g/L、Na2MoO4·2H2O10-40g/L、CoSO4·7H2O 1~10g/L、C6H5Na3O7·2H2O 10-50g/L和Na2CO360~120g/L。

5.按照权利要求3所述一种高析氢催化活性非晶镀层制备方法,其特征在于,电沉积工艺为:电流密度Dk=10~60mA/cm2,镀液温度20-60℃,镀液pH值为8-11,电镀时间:30分钟-120分钟。

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