[发明专利]一种金属硅表面处理提纯方法有效
申请号: | 201010040052.3 | 申请日: | 2010-01-19 |
公开(公告)号: | CN101767787A | 公开(公告)日: | 2010-07-07 |
发明(设计)人: | 余学功;顾鑫;杨德仁 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
主分类号: | C01B33/037 | 分类号: | C01B33/037 |
代理公司: | 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 | 代理人: | 胡红娟 |
地址: | 310027浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 金属硅 表面 处理 提纯 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种金属硅的提纯方法,尤其涉及一种金属硅表面处理提 纯方法。
背景技术
太阳能分布广泛,是一种用之不竭的清洁能源。太阳能电池能将太阳 能转化为电能,但目前太阳能电池的价格比较高,尤其是作为光伏市场主 体的晶硅电池成本依然很高,这严重影响了太阳能的推广和使用。
据权威机构预测,未来10年的光伏市场仍会由晶体硅太阳电池主导。 而近5年来,太阳级硅原料的价格曾经上涨到$500/kg,尽管目前回落到 $100/kg左右,但是材料成本仍然占到总成本的25%以上,成为降低电池 成本最难以突破的环节之一。在高纯多晶硅提纯技术中,改良西门子法、 硅烷法占据了几乎98%以上的份额。但是,利用这些方法得到的硅原料纯 度可达9N,远高于太阳能级硅的7N要求,且成本难以降低。因此,国内 外低成本的太阳能级多晶硅新工艺的技术开发迅速发展起来,逐渐把生产 低纯度的太阳能级多晶硅工艺和高纯度电子级多晶硅工艺分离出来,以降 低太阳能级多晶硅的生产成本。在这些低成本制备太阳能级多晶硅的方法 中,物理冶金法提纯金属硅的技术被认为是具有发展前景的技术。一般认 为,大多金属杂质在硅中的分凝系数都很小,可用定向凝固方法去除;但 是,B和P的分凝系数(分别为0.8和0.35)较大,用定向凝固的方法很难 去除。而且,当金属杂质浓度很高(大于1ppmw)时,金属杂质不能通过 定向凝固的办法去除。所以,有效的除去B、P以及大幅降低金属杂质浓 度至1ppmw以下,将是生产低成本的太阳能级硅的有效途径。
发明内容
本发明提供一种低成本、低能耗、属于物理法提纯范畴的金属硅的提 纯方法。通过本方法制备高级金属硅,可以作为太阳能电池用硅材料或进 一步提纯的原料。
一种金属硅表面处理提纯方法,包括如下步骤:
1)将金属硅去油、洗净;
2)将步骤1)的产物(去油、洗净的金属硅)以醇或酮(其中醇或 酮分子中含碳原子个数为1-6)为介质,球磨至0.005-0.03mm,在氩气气 氛下烘干,以此减少硅颗粒表面的氧化;
3)将步骤2)的产物(球磨、烘干的金属硅)加热至1050~1350 ℃,保温30~120分钟,以1~10℃每分钟的速率降温至700~900℃,保温 30~150分钟之后冷却至室温;
4)将步骤3)的产物(冷却至室温的金属硅)取出,用盐酸和氢 氟酸的混合溶液浸泡1~5个小时后,用去离子水清洗干净;
所述的盐酸的质量百分比浓度为5%~20%;
所述的氢氟酸的质量百分比浓度为1%~10%;
所述的盐酸与氢氟酸的体积比1∶1。
步骤1)所述的金属硅的粒径大小为0.05mm~10mm。
作为进一步的优选,步骤3)中,将步骤2)的产物加热至1100~1200 ℃,保温60~120分钟,以1~10℃每分钟的速率降温至700~800℃,保温 60~150分钟之后冷却至室温。
作为进一步的优选,步骤3)中所述的盐酸的质量百分比浓度为 8%~15%;所述的氢氟酸的质量百分比浓度为3%~8%。
本发明利用了硅中杂质外扩散和表面吸杂的原理,首先在金属硅表面 人为造成大量缺陷,形成损伤层。由于损伤层电学活性很高,在高温下可 以吸附金属硅中的杂质,我们可以利用损伤层的这个性质对金属硅进行初 步提纯处理,能将金属硅纯度初步提纯到99.99%~99.999%(4~5N),可以 作为太阳能电池用硅材料或进一步提纯的原料用于后续的提纯工艺。
具体实施方式
实施例1
1)将粒径大小为0.05mm的金属硅在丙酮中以超声去油、洗净;
2)将步骤1)的产物以乙醇为介质,球磨至0.005mm,将所得产物 在氩气气氛下烘干;
3)将步骤2)的产物放入退火炉中,加热至1050℃,保温30分钟, 以1℃每分钟的速率降温至700℃,保温30分钟,之后随炉冷却;
4)将步骤3)的产物取出,用质量百分比浓度为5%的盐酸和质量百 分比浓度为1%的氢氟酸按体积比1∶1浸泡1个小时后,用去离子水清洗 干净。可以得到纯度为4N的高级金属硅材料。(杂质含量经过ICPMS测 试,具体见下表,ppmw是指按质量计的百万分之一,即指在每克硅中有 1微克的金属杂质)
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江大学,未经浙江大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010040052.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种废水回收处理工艺
- 下一篇:电动升降装置