[发明专利]掺杂导电聚吡咯的制备方法无效
申请号: | 201010046304.3 | 申请日: | 2010-01-08 |
公开(公告)号: | CN101845142A | 公开(公告)日: | 2010-09-29 |
发明(设计)人: | 冯辉霞;刘生丽;张建强;王毅;裴先武;邵亮;刘静晨 | 申请(专利权)人: | 兰州理工大学 |
主分类号: | C08G73/06 | 分类号: | C08G73/06;C08K5/435;C08L79/04;H01B1/12 |
代理公司: | 兰州振华专利代理有限责任公司 62102 | 代理人: | 董斌 |
地址: | 730050 *** | 国省代码: | 甘肃;62 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 掺杂 导电 吡咯 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及导电材料的制备方法,其特点是,采用氨基磺酸为掺杂剂的聚吡咯导电材料的制备方法。
背景技术
导电聚合物是20世纪70年代发展起来的一个新的研究领域,在化学电源的电极材料、修饰电极和酶电极、电色显示等方面有着广阔的应用前景,其中具有共轭双键的导电高分子聚吡咯由于合成方便、抗氧化性能好,与其他导电高分子相比,因具有电导率较高、易成膜、柔软、无毒等优点而日益受到人们关注。
吡咯单体在氧化剂的存在下能比较迅速地氧化聚合成聚吡咯,但纯聚吡咯即不经过掺杂时其导电性较差,只有经过合适掺杂剂掺杂后才能表现出较好的导电性。
目前,合成导电聚吡咯的主要方法有两种:电化学聚合法和化学氧化聚合法。中国专利ZL2006100302410.X,报道了导电聚吡咯纳米空心球的制备方法,该方法通过超声分散,在100℃~180℃下反应得到导电聚吡咯与二氧化硅纳米球的复合粒子,但是该方法的工艺实施条件要求较高。中国专利ZL03157118.2,报道了导电聚吡咯纳米线的制备方法,该方法的目的是提供一种表面活性剂辅助化学氧化合成法制备导电聚吡咯纳米线的方法。该方法的实施工艺简单,但是对温度的要求较高,-20℃~30℃;并且反应时间很长,最长需要48小时。
发明内容
本发明的目的是提供一种掺杂导电聚吡咯的制备方法。本发明是掺杂导电聚吡咯的制备方法,其步骤为:
(1)将氨基磺酸和吡咯单体以及水混合,氨基磺酸与吡咯单体的摩尔比为:0.3~11∶1;
(2)在搅拌状态下,氮气保护下,将氧化剂加入到上述溶液中,在10~40℃的温度下进行反应,时间持续10分钟~6小时,氧化剂与吡咯单体的摩尔比为:0.5~1.2∶1;
(3)将上述反应液过滤、洗涤至滤液呈中性;
(4)将滤饼在40℃温度下进行真空干燥,粉碎后得聚吡咯黑色导电粉末。
将得到的导电聚吡咯材料压成圆形薄片,用四探针电阻率测试仪测量薄片的电阻率,通过电阻率和电导率的倒数关系,得到导电聚吡咯材料的电导率。
本发明的有益之处在于:合成工艺简单,合成时间较短;合成所用的原料及合成产品均无毒无害;合成的导电聚吡咯材料导电性较高,可用于传感器、生物医学、电子器件领域。
附图说明
图1为实施例6样品的扫描电镜图,图2为实施例6样品的红外吸收光谱图,图3为实施例6样品的X射线衍射分析图。
具体实施方法
实施例1
将含0.011 mol三氯化铁的水溶液,在搅拌状态下,加入到事先混合好的含0.098mol氨基磺酸和0.014mol吡咯单体的水溶液中,在氮气保护下,在25℃时,进行搅拌,反应持续6小时,将反应液过滤、洗涤至滤液呈中性;最后,将滤饼40℃的温度下进行真空干燥,经粉碎得聚吡咯黑色导电粉末,压片测电导率为2.4 S·cm-1。
实施例2
将含0.011mol三氯化铁的水溶液,在搅拌状态下,加入到事先混合好的含0.13mol氨基磺酸和0.014mol吡咯单体的水溶液中,在氮气保护下,在25℃时,进行搅拌,反应持续6小时,将反应液过滤、洗涤至滤液呈中性;最后,将滤饼在40℃的温度下进行真空干燥,经粉碎得聚吡咯黑色导电粉末,压片测电导率为3.4 S·cm-1。
实施例3
将含0.011mol三氯化铁的水溶液,在搅拌状态下,加入到事先混合好的含0.15mol氨基磺酸和0.014mol吡咯单体的水溶液中,在氮气保护下,在25℃时,进行搅拌,反应持续30分钟,将反应液过滤、洗涤至滤液呈中性;最后,将滤饼在40℃的温度下进行真空干燥,经粉碎得聚吡咯黑色导电粉末,压片测电导率为0.3S·cm-1。
实施例4
将含0.011mol过硫酸铵的水溶液,在搅拌状态下,加入到事先混合好的含0.13mol氨基磺酸和0.014mol吡咯单体的水溶液中,在氮气保护下,在25℃时,进行搅拌,反应持续6小时,将反应液过滤、洗涤至滤液呈中性;最后,将滤饼在40℃的温度下进行真空干燥,经粉碎得聚吡咯黑色导电粉末,压片测电导率为0.4S·cm-1。
实施例5
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于兰州理工大学,未经兰州理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010046304.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类