[发明专利]二维光纤光栅及其制备方法

权利要求书

1.一种二维光纤光栅，包括由一组纤芯和光纤包层构成的光纤，其特征是：多个纤芯在一个平面内紧密排成线性阵列多芯光纤，光纤本身在垂直于光纤轴向构成一维光栅；各纤芯在纵向相同位置处写入光纤光栅阵列，多个光栅间有关联，在两个方向均具有光栅效应，构成二维光纤光栅。

2.根据权利要求1所述的二维光纤光栅，其特征是：所述的线性阵列多芯光纤为光敏光纤，各纤芯具有相同的光敏性或者是具有不同的光敏性。

3.根据权利要求1或2所述的二维光纤光栅，其特征是：所述的线性阵列多芯光纤各纤芯具有相同的折射率或者是具有不同的折射率。

4.根据权利要求1或2所述的二维光纤光栅，其特征是：所述的线性阵列多芯光纤各纤芯的光栅结构是Bragg光纤光栅、倾斜闪耀光纤光栅或者是长周期光纤光栅。

5.根据权利要求3所述的二维光纤光栅，其特征是：所述的线性阵列多芯光纤各纤芯的光栅结构是Bragg光纤光栅、倾斜闪耀光纤光栅或者是长周期光纤光栅。

6.一种二维光纤光栅的制备方法，其特征是：

(1)将多芯光纤剥除一定长度的涂敷层，进行清洁处理；

(2)将多芯光纤固定在光纤夹具上，光纤夹具固定在可作任意角度旋转的精密调节装置上；

(3)调节相位掩模板紧贴光纤，使相位掩模板与光纤相互平行；

(4)调整精密调节装置使多芯光纤纤芯平面平行于相位掩模板，光纤轴线与相位掩模板刻线方向垂直或成一定的角度，调好后将之固定；

(5)紫外光照射，Bragg二维光纤光栅或倾斜闪耀二维光纤光栅结构。

7.一种二维光纤光栅的制备方法，其特征是：

(1)将多芯光纤剥除一定长度的涂敷层，进行清洁处理；

(2)将多芯光纤固定在光纤夹具上，光纤夹具固定在可作任意角度旋转的精密调节装置上；

(3)调整精密调节装置使多芯光纤纤芯平面正对着CO₂激光光源；

(4)逐点周期性曝光写入，使纤芯折射率被周期性地调制形成长周期二维光纤光栅结构。