[发明专利]含铱配合物的磷光共轭聚合物光电材料的制备和应用方法有效

专利信息
申请号: 201010102022.0 申请日: 2010-01-27
公开(公告)号: CN101787275A 公开(公告)日: 2010-07-28
发明(设计)人: 黄维;赵强;刘淑娟;史慧芳;安众福;许文娟 申请(专利权)人: 南京邮电大学
主分类号: C09K11/06 分类号: C09K11/06;C07F15/00;G01N21/33;G01N21/64
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 叶连生
地址: 210003 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 配合 磷光 共轭 聚合物 光电 材料 制备 应用 方法
【权利要求书】:

1.一种含铱配合物的磷光共轭聚合物光电材料,其特征在于该光电材料的结 构通式如下:

Ar可分别代表:

其中,R1~R5为具有1至32个碳原子的直链、支链或者环状烷基链,相同 或者不同;

通式中,n+m=1,n为0~0.5,n≠0,m相应的为1~0.5,分别得到不同 铱配合物含量的聚合物。

2.一种如权利要求1所述的含铱配合物的磷光共轭聚合物光电材料的制备方 法,其特征在于该方法包括铱配合物单体的合成和该单体通过Suzuki偶联反应制 备前述聚合物材料;其中Suzuki偶联反应的反应条件为Ph(PPh3)4/K2CO3(aq)/甲苯 或Ph(dba)2/CsF/Ph3P/1,2-二甲氧基乙烷,

铱配合物单体合成路线为:

步骤1:在NaOH/EtOH的条件下进行缩合反应;

步骤2:在C2H5OCH2CH2OH/H2O的条件下进行铱配位反应;

步骤3:在干燥的THF/NaH氮气氛的条件下进行羟醛缩合反应;

步骤4:在C2H5OCH2CH2OH/Na2CO3氮气氛的条件下进行二酮配位反应;

反应过程如下:

3.一种如权利要求1所述的含铱配合物的磷光共轭聚合物光电材料的应用方 法,其特征在于磷光铱配合物C^N配体中噻吩环上的硫原子具有良好的Hg2+识别 能力;向聚合物溶液中不断滴加Hg2+,噻吩环上的硫原子作为结合位点与Hg2+结 合;这导致铱配合物的红光发射猝灭,主链发射增强,从而使该类共轭聚合物材 料在有机溶剂中对Hg2+有很好的选择性识别作用。

4.一种如权利要求1所述的含铱配合物的磷光共轭聚合物光电材料,其特征 在于该共轭聚合物光电材料在固态薄膜的状态下同样对Hg2+有较好的响应,以制 备便携式Hg2+检测试纸。

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