[发明专利]一种制备禁带梯度化TiO2多孔薄膜的方法无效

专利信息
申请号: 201010103034.5 申请日: 2010-02-01
公开(公告)号: CN102140013A 公开(公告)日: 2011-08-03
发明(设计)人: 刘志锋;雅菁;鄂磊 申请(专利权)人: 天津城市建设学院
主分类号: C03C17/34 分类号: C03C17/34
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 30038*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 一种 制备 梯度 tio sub 多孔 薄膜 方法
【权利要求书】:

1.一种适合制备禁带梯度化TiO2多孔薄膜的方法。该方法为溶胶凝胶/模板组装法。首先,以钛酸丁酯(Ti(OC4H9)4)为前驱体,表面活性剂聚乙二醇(PEG2000)为模板剂,二乙醇胺为络合剂,无水乙醇为溶剂,配制金属元素V(通过偏钒酸铵引入)不同掺杂量的一系列溶胶;然后,采用浸渍-提拉工艺,在ITO导电玻璃上依次涂覆上述不同掺V量的溶胶,改变金属掺杂量实现多孔薄膜的禁带宽度连续变化;最后,经煅烧除去PEG2000模板而得禁带梯度化TiO2多孔薄膜。

2.一种以要求1所述的V掺杂的TiO2溶胶的配制。其特征在于具体过程和工艺参数如下:将钛酸丁酯、二乙醇胺加入到无水乙醇溶液里,常温下磁力搅拌2小时,然后加入溶于少量水和无水乙醇混合物中的偏钒酸铵,再加入PEG2000,继续搅拌2小时。调解偏钒酸铵加入量,制备一系列不同V掺杂量的TiO2溶胶。钛酸丁酯(Ti(OC4H9)4)的浓度为0.4~0.7±0.03mol/L,二乙醇胺与钛酸丁酯的摩尔比为1∶1,PEG2000加入量为1.0±0.02g,偏钒酸铵掺杂量从0~0.2mol梯度(间隔为0.02)变化,无水乙醇溶剂为50ml。

3.一种以要求1所述的禁带梯度化TiO2多孔薄膜的浸渍-提拉法制备。其特征在于具体过程和相关工艺参数如下:首先将一个清洁干净的ITO玻璃基片垂直浸渍到不同V掺杂量的TiO2溶胶中,静止一定时间,将该玻璃基片垂直拉出,在100℃下干燥30min,重复上述过程,涂敷不同V掺杂量的TiO2溶胶,最后煅烧至550℃,得禁带梯度化TiO2多孔薄膜。提拉速度为4±0.1cm/min,浸渍时间为5±1min,每次涂敷间隔30±5min,干燥温度为100±5℃,最终煅烧温度为550±5℃/1h。

4.一种以要求1所述的禁带梯度化TiO2多孔薄膜的禁带宽度变化范围及孔径大小。其特征在于偏钒酸铵掺杂量从0~0.2mol梯度(间隔为0.02)变化,TiO2薄膜的禁带宽度从3.28eV到2.82eV变化,孔径约100nm。

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