[发明专利]单面双层蓝光光盘及其制造方法无效
申请号: | 201010103732.5 | 申请日: | 2010-01-27 |
公开(公告)号: | CN101819789A | 公开(公告)日: | 2010-09-01 |
发明(设计)人: | 范继良;杨明生 | 申请(专利权)人: | 东莞宏威数码机械有限公司 |
主分类号: | G11B7/24 | 分类号: | G11B7/24;G11B7/26 |
代理公司: | 广州三环专利代理有限公司 44202 | 代理人: | 张艳美;郝传鑫 |
地址: | 523018 广东省东莞南城区*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 单面 双层 光盘 及其 制造 方法 | ||
1.一种单面双层蓝光光盘,其特征在于,包括:
纸质层,所述纸质层具有相对的第一表面和第二表面;
第一缓冲层,所述第一缓冲层形成于所述纸质层的第一表面上;
第一记录层,所述第一记录层形成于所述第一缓冲层上;
全反射层,所述全反射层形成于所述第一缓冲层上;
第二缓冲层,所述第二缓冲层形成于所述全反射层上;
第二记录层,所述第二记录层形成于所述第二缓冲层上;
半反射层,所述半反射层形成于所述第二记录层上;
硬保护层,所述硬保护层形成于所述半反射层上;及
防水层,所述防水层形成于所述纸质层的第二表面上。
2.如权利要求1所述的单面双层蓝光光盘,其特征在于,所述纸质层的厚度为1.1毫米。
3.如权利要求1所述的单面双层蓝光光盘,其特征在于,还包括一加强层,所述加强层形成于所述纸质层的第一表面上。
4.如权利要求3所述的单面双层蓝光光盘,其特征在于,所述单面双层蓝光光盘的厚度为1.2毫米。
5.如权利要求1所述的单面双层蓝光光盘,其特征在于,所述防水层为二氧化硅或氮化硅材质。
6.如权利要求1所述的单面双层蓝光光盘,其特征在于,所述第一缓冲层、第二缓冲层的厚度均介于23微米至25微米之间。
7.如权利要求1所述的单面双层蓝光光盘,其特征在于,所述第一记录层、第二记录层的厚度均介于1微米至2微米之间。
8.一种只读单面双层蓝光光盘的制造方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)提供纸质的且厚度为1.1毫米的基片,所述基片具有相对的第一表面和第二表面;
(2)在所述基片的第一表面上旋涂形成第一缓冲层;
(3)在所述第一缓冲层上旋涂形成第一胶水层;
(4)在所述第一胶水层上压膜信息坑道形成第一记录层;
(5)在所述第一记录层上溅镀形成全反射层;
(6)在所述全发射层上旋涂形成第二缓冲层;
(7)在所述第二缓冲层上旋涂形成第二胶水层;
(8)在所述第二胶水层上压膜信息坑道形成第二记录层;
(9)在所述第二记录层上溅镀形成半反射层;
(10)在所述半反射层上旋涂形成硬保护层;
(11)在所述基片的第二表面上旋涂防水层形成只读单面双层蓝光光盘。
9.如权利要求8所述的只读单面双层蓝光光盘的制造方法,其特征在于,所述步骤(2)之前还包括在所述基片的第一表面上形成一层加强层的步骤。
10.如权利要求9所述的只读单面双层蓝光光盘的制造方法,其特征在于,所述只读单面双层蓝光光盘的厚度为1.2毫米。
11.如权利要求8所述的只读单面双层蓝光光盘的制造方法,其特征在于,所述防水层为二氧化硅或氮化硅材质。
12.如权利要求8所述的只读单面双层蓝光光盘的制造方法,其特征在于,所述第一缓冲层、第二缓冲层的厚度均介于23微米至25微米之间。
13.如权利要求8所述的只读单面双层蓝光光盘的制造方法,其特征在于,所述第一记录层、第二记录层的厚度均介于1微米至2微米之间。
14.一种可录单面双层蓝光光盘的制造方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)提供纸质的且厚度为1.1毫米的基片,所述基片具有相对的第一表面和第二表面;
(2)在所述基片的第一表面上旋涂形成第一缓冲层;
(3)在所述第一缓冲层上旋涂形成第一胶水层;
(4)在所述第一胶水层上压膜形成空白的信息坑道并旋涂染料形成第一记录层;
(5)在所述第一记录层上溅镀形成全反射层;
(6)在所述全发射层上旋涂形成第二缓冲层;
(7)在所述第二缓冲层上旋涂形成第二胶水层;
(8)在所述第二胶水层上压膜形成空白的信息坑道并旋涂染料形成第二记录层;
(9)在所述第二记录层上溅镀形成半反射层;
(10)在所述半反射层上旋涂形成硬保护层;
(11)在所述基片的第二表面上旋涂防水层形成可录单面双层蓝光光盘。
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