[发明专利]单面单层蓝光光盘及其制造方法

权利要求书

1.一种单面单层蓝光光盘，其特征在于，包括：

纸质层，所述纸质层具有相对的第一表面和第二表面；

缓冲层，所述缓冲层形成于所述纸质层的第一表面上；

记录层，所述记录层形成于所述缓冲层上；

全反射层，所述全反射层形成于所述记录层上；

硬保护层，所述硬保护层形成于所述全反射层上；及

防水层，所述防水层形成于所述纸质层的第二表面上。

2.如权利要求1所述的单面单层蓝光光盘，其特征在于，所述纸质层的厚度为1.1毫米。

3.如权利要求1所述的单面单层蓝光光盘，其特征在于，还包括一加强层，所述加强层形成于所述纸质层的第一表面上。

4.如权利要求3所述的单面单层蓝光光盘，其特征在于，所述单面单层蓝光光盘的厚度为1.2毫米。

5.如权利要求1所述的单面单层蓝光光盘，其特征在于，所述防水层为二氧化硅或氮化硅材质。

6.如权利要求1所述的单面单层蓝光光盘，其特征在于，所述缓冲层的厚度介于23微米至25微米之间。

7.如权利要求1所述的单面单层蓝光光盘，其特征在于，所述记录层的厚度介于1微米至2微米之间。

8.一种只读单面单层蓝光光盘的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)提供纸质的且厚度为1.1毫米的基片，所述基片具有相对的第一表面和第二表面；

(2)在所述基片的第一表面上旋涂形成缓冲层；

(3)在所述缓冲层上旋涂形成胶水层；

(4)在所述胶水层上压膜信息坑道形成记录层；

(5)在所述记录层上溅镀形成全反射层；

(6)在所述全反射层上旋涂形成硬保护层；

(7)在所述基片的第二表面上旋涂防水层形成只读单面单层蓝光光盘。

9.如权利要求8所述的只读单面单层蓝光光盘的制造方法，其特征在于，所述步骤(2)之前还包括在所述基片的第一表面上形成一层加强层的步骤。

10.如权利要求9所述的只读单面单层蓝光光盘的制造方法，其特征在于，所述单面单层蓝光光盘的厚度为1.2毫米。

11.如权利要求8所述的只读单面单层蓝光光盘的制造方法，其特征在于，所述防水层为二氧化硅或氮化硅材质。

12.如权利要求8所述的只读单面单层蓝光光盘的制造方法，其特征在于，所述缓冲层的厚度介于23微米至25微米之间。

13.如权利要求8所述的只读单面单层蓝光光盘的制造方法，其特征在于，所述记录层的厚度介于1微米至2微米之间。

14.一种可录单面单层蓝光光盘的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)提供纸质的且厚度为1.1毫米的基片，所述基片具有相对的第一表面和第二表面；

(2)在所述基片的第一表面上旋涂形成缓冲层；

(3)在所述缓冲层上旋涂形成胶水层；

(4)在所述胶水层上压膜形成空白的信息坑道并旋涂染料形成记录层；

(5)在所述记录层上溅镀形成全反射层；

(6)在所述全反射层上旋涂形成硬保护层；

(7)在所述基片的第二表面上旋涂防水层形成可录单面单层蓝光光盘。

15.如权利要求14所述的可录单面单层蓝光光盘的制造方法，其特征在于，所述步骤(2)之前还包括在所述基片的第一表面上形成一层加强层的步骤。

16.如权利要求15所述的可录单面单层蓝光光盘的制造方法，其特征在于，所述单面单层蓝光光盘的厚度为1.2毫米。

17.如权利要求14所述的可录单面单层蓝光光盘的制造方法，其特征在于，所述防水层为二氧化硅或氮化硅材质。

18.如权利要求14所述的可录单面单层蓝光光盘的制造方法，其特征在于，所述缓冲层的厚度介于23微米至25微米之间。

19.如权利要求14所述的可录单面单层蓝光光盘的制造方法，其特征在于，所述记录层的厚度介于1微米至2微米之间。