[发明专利]牺牲组合物、其应用以及分解方法

权利要求书

1.一种组合物，其包括：经受酸催化分解的牺牲聚合物；以及催化量的光产酸源(PAG)。

2.如权利要求1所述的组合物，其中该组合物在约100-120℃的温度范围内分解。

3.如权利要求1所述的组合物，其中该组合物在约175-200℃的温度范围内分解。

4.如权利要求1所述的组合物，其中该组合物在约100-120℃的温度范围内分解且基本不残留源自聚合物或PAG中的固体残留物。

5.如权利要求1所述的组合物，其中该组合物在暴露于紫外(UV)辐射后在约100-120℃范围内的温度下分解。

6.如权利要求1所述的组合物，其中该组合物起粘合剂作用。

7.如权利要求1所述的组合物，其中该组合物为正牺牲材料。

8.如权利要求1所述的组合物，其中该聚合物选自(1)聚碳酸酯以及(2)聚降冰片烯以及聚降冰片烯碳酸酯的共聚物，以及它们的组合。

9.如权利要求1所述的组合物，其中该聚合物为选自以下组中的聚碳酸酯：聚碳酸亚丙基酯、聚碳酸亚乙基酯、聚环己烷碳酸酯、聚环己烷丙烯碳酸酯、聚降冰片烯碳酸酯、以及其组合。

10.如权利要求1所述的组合物，其中该光产酸源选自亲核性卤化物、络合金属卤化物阴离子、以及其组合。

11.如权利要求1所述的组合物，其中该光产酸源选自二苯基碘鎓盐、三苯基锍盐、二苯基氟鎓盐、以及其组合。

12.如权利要求1所述的组合物，其中该光产酸源选自四(五氟苯基)硼酸-4-甲基苯基[4-(1-甲基乙基)苯基]碘鎓(DPI-TPFPB)；四(五氟苯基)硼酸三(4-叔丁基苯基)锍(TTBPS-TPFPB)；六氟磷酸三(4-叔丁基苯基)锍(TTBPS-HFP)；三氟甲磺酸三苯基锍(TPS-Tf)；二(4-叔丁基苯基)三氟甲磺酸碘鎓(DTBPI-Tf)；三嗪(TAZ-101)；六氟锑酸三苯基锍(TPS-103)；Rhodosil^TM光敏引发剂2074(FABA)；三苯基锍二(全氟甲烷磺酰基)酰亚胺(TPS-N1)；二-(p-叔丁基)苯基碘鎓二(全氟甲烷磺酰基)酰亚胺(DTBPI-N1)；三苯基锍三(全氟甲基磺酰基)甲基(TPS-C1)；二-(p-叔丁基苯基)碘鎓；三(全氟甲基磺酰基)甲基(DTBPI-C1)；以及其组合。

13.如权利要求1所述的组合物，其中该牺牲聚合物约占组合物重量百分比的1-50％，并且其中该光产酸源约占组合物重量的0.5-5％。

14.一种组合物，其含有：

聚合物；及

催化量的负光敏引发剂。

15.如权利要求14所述的组合物，其中该聚合物选自聚碳酸酯、聚降冰片烯以及聚降冰片烯碳酸酯的共聚物、以及其组合。

16.如权利要求14所述的组合物，其中该负光敏引发剂选自二(2，4，6-三甲基苯甲酰基)-苯基氧化膦；2-苯甲基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)-丁酮-1；2，2-二甲氧基-1，2-二苯基乙烷-1-酮；2-甲基-1-[4-(甲硫基)-苯基]-2-吗啉代丙烷-1-酮；苯偶姻乙醚；2-甲基-4’-(甲硫基)-2-吗啉代-苯丙酮；2，2’-二甲氧基-2-苯基-苯乙酮；2，6-二(4-叠氮基亚苄基)-4-乙基环己酮(BAC-E)；以及其混合物。

17.一种制备构件的方法，其包括：

将组合物设置于表面上，其中所述组合物包含牺牲聚合物以及光产酸源；

将至少部分所述组合物暴露于能量；以及

移除部分所述组合物以在所述组合物中形成第一气隙，该被移除的部分对应于暴露于能量的部分。

18.如权利要求17所述的方法，其进一步包括将掩膜设置于所述组合物之上，该掩膜编码限定将于所述组合物中形成的气隙的轮廓。

19.如权利要求17所述的方法，其中该牺牲聚合物选自聚碳酸酯、聚降冰片烯以及聚降冰片烯碳酸酯的共聚物、以及其组合。

20.如权利要求17所述的方法，其中将所述组合物暴露于能量包括将所述组合物暴露于选自光及热形式的能量。