[发明专利]光致抗蚀剂组合物无效

专利信息
申请号: 201010103814.X 申请日: 2010-01-27
公开(公告)号: CN101813886A 公开(公告)日: 2010-08-25
发明(设计)人: 刘陆;邹应全;杨遇春;黄勇;刘启升 申请(专利权)人: 深圳市容大电子材料有限公司;北京师范大学
主分类号: G03F7/021 分类号: G03F7/021
代理公司: 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 代理人: 钟守期;唐铁军
地址: 518103 广东*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 光致抗蚀剂 组合
【权利要求书】:

1.一种抗蚀剂组合物,包括:

1)5-50%重量感光高分子聚合物,其为一种共聚物,包括

i)10%至100%以下的式(II)重复单元,

其中

R1代表氢或C1-C6-烷基;

R2代表其中R3和R4各自独立地代表氢、卤素、C1-C6-烷基、C1-C6-烷氧基,或者代表由C1-C6-烷基或C1-C6-羟烷基取代或未被取代的氨基;

X和Y各自独立地代表O、S或-NR5,其中R5代表氢或C1-C6-烷基;

n代表1-6之间的任一整数;以及

ii)余量的一种或多种重复单元,其来源于丙烯酸类、丙烯酸酯类、丙烯酰胺类、苯乙烯类或其混合物,以及

2)50-95%重量的溶剂。

2.一种抗蚀剂组合物,包括:

1)5-50%重量感光高分子聚合物,其为由式(II)重复单元组成的均聚物,

其中

R1代表氢或C1-C6-烷基;

R2代表其中R3和R4各自独立地代表氢、卤素、C1-C6-烷基、C1-C6-烷氧基,或者代表由C1-C6-烷基或C1-C6-羟烷基取代或未被取代的氨基;

X和Y各自独立地代表O、S或-NR5,其中R5代表氢或C1-C6-烷基;

n代表1-6之间的任一整数;以及

2)50-95%重量的溶剂。

3.权利要求1或2的抗蚀剂组合物,所述式(II)重复单元中,

R1代表氢、甲基、乙基、正丙基或异丙基;

R2代表其中R3和R4各自独立地代表氢、氟、氯、溴、甲基、乙基、正丙基、异丙基、甲氧基、乙氧基、正丙氧基、异丙氧基,或者代表单取代、双取代或未取代的氨基,所述取代基各自独立地为甲基、乙基、正丙基、异丙基或羟甲基、羟乙基或羟丙基;

X和Y各自独立地代表O、S或-NR5,其中R5代表氢、甲基、乙基、正丙基或异丙基;

n代表1、2或3。

4.权利要求1或2的抗蚀剂组合物,所述式(II)重复单元中,

R1代表氢或甲基;

R2代表其中R3和R4各自独立地代表氢、氟、氯、甲基、甲氧基、N,N-二甲基氨基、N-甲基-N-乙基氨基、N,N-二乙基氨基、N-甲基-N-异丙基氨基或N-甲基-N-异丁基氨基;

X和Y各自独立地代表O或-NR5,其中R5代表氢或甲基;

n代表1或2。

5.权利要求1或2的抗蚀剂组合物,其中所述感光高分子聚合物的数均分子量为1000-100000,优选1000-60000,更优选1000-10000,最优选1000-5000。

6.权利要求1或2的抗蚀剂组合物,其中所述感光高分子聚合物的含量为10wt%-40wt%,更优选为20wt%-35wt%。

7.权利要求1的抗蚀剂组合物,其中所述式(II)结构单元占整个聚合物链的摩尔百分比为10%-100%,优选10%-80%,更优选15%-60%,最优选20%-50%。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市容大电子材料有限公司;北京师范大学,未经深圳市容大电子材料有限公司;北京师范大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010103814.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top