[发明专利]一种碳/金属纳米颗粒复合薄膜的制备方法无效
| 申请号： | 201010103838.5 | 申请日： | 2010-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN102140622A | 公开（公告）日： | 2011-08-03 |
| 发明（设计）人： | 杨容;曲江兰;郑捷;李星国 | 申请（专利权）人： | 北京大学 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京君尚知识产权代理事务所(普通合伙) 11200 | 代理人： | 李稚婷 |
| 地址： | 100871 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 金属 纳米 颗粒 复合 薄膜 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种碳/金属纳米颗粒复合薄膜的制备方法，将金属靶置于一反应室中，然后通入一定流量的惰性气体和碳源气体，通过射频溅射制得碳/金属纳米颗粒复合薄膜。
2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述惰性气体为氩气。
3.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述碳源气体是乙炔、乙烯、甲烷或它们的混合气体。
4.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述碳源气体占惰性气体和碳源气体总量的摩尔比为2％～20％。
5.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述反应室内的真空压力控制在1～20Pa。
6.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述惰性气体和碳源气体的总流量为10～50sccm。
7.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，射频电源功率为50-150W。
8.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，射频溅射时间为3-20min。
9.如权利要求1～8中任一所述的制备方法，其特征在于，在通入碳源气体进行正式的射频溅射前，先仅通入惰性气体进行预溅射，除去金属靶表面的杂质。
10.如权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述预溅射中，反应室的真空压力控制在1～20Pa；惰性气体的流量为10～50sccm；射频电源功率为50-150W；预溅射时间为5min。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京大学，未经北京大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010103838.5/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
