[发明专利]提高侧墙角均匀度的方法

权利要求书

1.一种提高侧墙角均匀度的方法，应用于栅极刻蚀流程中的抗反射涂层打开Barc open工序，其特征在于，该方法包括：

根据实验统计值生成栅极薄膜的厚度与Barc open工序中使用的刻蚀环境参数的对应关系，在对晶圆进行Barc open前，测量晶圆上栅极薄膜的厚度；

根据测量得到的栅极薄膜的厚度、以及所述栅极薄膜的厚度与Barc open工序中使用的刻蚀环境参数的对应关系，设定Barc open工序中使用的刻蚀环境参数的取值，并采用设定值的刻蚀环境参数进行Barc open工序。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据实验统计值生成栅极薄膜的厚度与Barc open工序中使用的刻蚀环境参数的对应关系的方法包括：

通过实验得到对于各种栅极薄膜厚度，经过Barc open工序能够得到理想侧墙角形状的刻蚀环境参数的经验值；

利用所述栅极薄膜厚度及其对应的刻蚀环境参数的经验值，拟合得到表示所述栅极薄膜厚度与Barc open工序中使用的该刻蚀环境参数对应关系的曲线。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述刻蚀环境参数包括：

刻蚀气体的浓度、刻蚀气体的气压、流量以及偏置电压中一个或多个参数的组合。

4.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，当所述刻蚀环境参数为偏置电压时，所述栅极薄膜的厚度与Barc open工序中使用的刻蚀环境参数的对应关系为二维坐标平面内一条斜率小于0的直线，其斜率和截距由制程工艺决定。