[发明专利]半导体器件有效

专利信息
申请号: 201010104031.3 申请日: 2010-01-27
公开(公告)号: CN101794778A 公开(公告)日: 2010-08-04
发明(设计)人: 田边广光;河野宪司;都筑幸夫;天野伸治 申请(专利权)人: 株式会社电装
主分类号: H01L27/06 分类号: H01L27/06
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 邬少俊;王英
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 半导体器件
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种包括形成于相同半导体衬底中的绝缘栅极双极晶体管 (IGBT)和续流二极管(FWD)的半导体器件。

背景技术

例如,JP-2005-57235A和JP-2008-53648公开了一种包括形成于相同半 导体衬底的垂直IGBT和垂直FWD的半导体器件。这种半导体器件被称为 反向导通绝缘栅极双极晶体管(RC-IGBT)。

在RC-IGBT中,FWD的阳极和IGBT的发射极形成为公共电极,且 FWD的阴极和IGBT的集电极形成为公共电极。例如,所述RC-IGBT构建 在倒相电路中且用于诸如电动机的电负载的脉宽调制(PWM)控制。

例如,JP-2004-88001A和JP-3156487公开了一种包括形成于相同半导 体衬底的IGBT和IGBT感测元件的半导体器件。所述IGBT感测元件用于 传输与流经所述IGBT的电流成比例的电流。通过检测传输通过所述IGBT 感测元件的电流来保护所述IGBT免于过电流。厚度恢复电阻

在另一常规半导体器件中,P型基极区沿着半导体衬底的表面重复地形 成于N型半导体衬底中。位于基极区的端部上的所述基极区具有P+型基极 接触区,但是不具有N+型发射极区。当位于基极区的端部上的基极区具有 基极接触区时,在切换IGBT时能够通过所述基极接触区有效地汲取在 IGBT工作期间从P+型集电极区注入半导体衬底的空穴。因而,减少空穴, 使得能够减小具有发射极区的基极区上的电流浓度。因此,能够改善击穿 IGBT的电阻。

应注意,当将RC-IGBT用于倒相电路时,施加至所述倒相电路上侧的 IGBT的栅极的驱动信号通常与施加至所述倒相电路下侧的IGBT的栅极的 驱动信号反相。因此,如果将电感性负载连接至所述倒相电路,即使在FWD 的续流工作期间也能够存在向IGBT的栅极施加驱动信号的可能性。结果, 在FWD工作期间导通IGBT的栅极,使得能够同时操作IGBT和FWD。

如上所述,在RC-IGBT中,FWD的阳极和IGBT的发射极形成为公共 电极,且FWD的阴极和IGBT的集电极形成为公共电极。因此,在FWD 工作期间导通IGBT的栅极时,FWD的阳极和阴极试图处于相同的电势。 结果,所述FWD不大可能处于正向工作。因此,在其中向IGBT的栅极施 加驱动信号的情况下,FWD的正向电压Vf增大。结果,半导体器件中的 DC损失增大。

本发明的发明人已经考虑到除了IGBT感测元件之外,能够通过向 RC-IGBT添加FWD感测元件解决上述问题。FWD感测元件用于传输与流 经RC-IGBT的FWD的电流成比例的电流。因此,通过使用FWD感测元 件能够检测电流是否流经FWD。将检测结果反馈至栅极驱动电路。在FWD 工作期间,所述栅极驱动电路停止施加至IGBT的栅极驱动信号。因而,能 够减小DC损失。

在这种情况下,IGBT感测元件和FWD感测元件形成在相同的衬底作 为RC-IGBT。如上所述,通过组合IGBT和FWD来形成RC-IGBT。因此, 能够将IGBT感测元件和FWD感测元件组合在一起以形成组合的感测元 件。

所组合的感测元件用于传输与流经IGBT的电流成比例的电流以及与 流经FWD的电流成比例的电流。通常,流经所组合的感测元件的电流小于 流经RC-IGBT的电流。因此,尽管所组合的感测元件与RC-IGBT具有相 同的结构,但是所组合的感测元件的尺寸小于RC-IGBT的尺寸。例如,所 组合的感测元件的尺寸大约是RC-IGBT的尺寸的千分之一到千分之十。

如上所述,所组合的感测元件与RC-IGBT具有相同的结构。具体而言, 在所组合的感测元件中,基极区的一部分具有发射极区和基极接触区。所 述基极区的一部分不仅用作沟道区,而且用作FWD感测元件的阳极区。由 于FWD感测元件的阴极区位于基极区的正下方,所以阴极区和基极区之间 的距离短。因此,在RC-IGBT的FWD工作期间,通过基极接触区大量空 穴被注入半导体衬底。结果,减小(劣化)了在FWD恢复期间击穿FWD 的电阻。

发明内容

鉴于上述情况,本发明的目的是提供一种包括RC-IGBT和用于感测流 经所述RC-IGBT的电流的组合感测元件的半导体器件,其中,改善了FWD 接收器恢复期间击穿FWD的电阻。

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