[发明专利]一种用于PET衰减校正的68Ge线源的制备工艺

权利要求书

1.一种用于PET衰减校正的⁶⁸Ge线源的制备工艺，该工艺包括以下步骤：

(1)将陶瓷微球置于硝酸和氯化锗[⁶⁸Ge]的混合溶液中，振荡反应，待⁶⁸Ge吸 附于陶瓷微球上，取出清洗，然后晾干；(2)将干燥好的吸附有⁶⁸Ge的陶瓷微 球均匀装填于一端密封的不锈钢管中，将另一端用玻璃毛密封，然后将不锈钢管 套于不锈钢套管中，最后将不锈钢套管与带有磁性的钨钢底座连接；其特征在于， 所述的步骤(1)中混合溶液中硝酸的浓度为12～15mol/L，Ge离子的浓度≤ 5mg/ml，吸附时间为10～20min。

2.根据权利要求1所述的一种用于PET衰减校正的⁶⁸Ge线源的制备工艺， 其特征在于，所述步骤(1)中取出清洗为从混合溶液中取出后依次用浓硝酸、 稀硝酸、水、丙酮进行清洗。

3.根据权利要求1所述的一种用于PET衰减校正的⁶⁸Ge线源的制备工艺， 其特征在于，所述的不锈钢管内径为3～6mm，长度为150～300mm。

4.根据权利要求3所述的一种用于PET衰减校正的⁶⁸Ge线源的制备工艺， 其特征在于，陶瓷微球的粒径为100～200目。

5.根据权利要求1所述的一种用于PET衰减校正的⁶⁸Ge线源的制备工艺， 其特征在于，所述的吸附时间为15min。

6.根据权利要求3所述的一种用于PET衰减校正的⁶⁸Ge线源的制备工艺， 其特征在于，所述的不锈钢管内径为4mm，长度为280mm。

7.根据权利要求1所述的一种用于PET衰减校正的⁶⁸Ge线源的制备工艺， 其特征在于，所述的不锈钢套管与钨钢底座采用螺纹连接且焊接固定。