[发明专利]一种包覆式扩展电极发光二极管的制作方法有效
申请号: | 201010105184.X | 申请日: | 2010-01-27 |
公开(公告)号: | CN101783381A | 公开(公告)日: | 2010-07-21 |
发明(设计)人: | 张华;洪灵愿;潘群峰;吴志强 | 申请(专利权)人: | 厦门市三安光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L33/36 | 分类号: | H01L33/36 |
代理公司: | 厦门原创专利事务所 35101 | 代理人: | 徐东峰 |
地址: | 361009 福建省厦*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 包覆式 扩展 电极 发光二极管 制作方法 | ||
1.一种包覆式扩展电极发光二极管的制作方法,其步骤如下:
1)提供一暂时基板,在暂时基板上依次外延生长缓冲层、截止层、n型砷化 镓欧姆接触层、n型铝镓铟磷限制层、有源层、p型铝镓铟磷限制层和p 型导电窗口层构成外延发光层;
2)在外延发光层上制作一反射镜;
3)提供一永久基板,在永久基板背面制作p电极,将完成前述步骤的暂时 基板与永久基板通过一接合层形成键合,接合面为反射镜和永久基板上 表面,并去除暂时基板、缓冲层和截止层;
4)在外延层上制作包覆式扩展电极:
采用湿法蚀刻图案化n型砷化镓欧姆接触层,暴露出其下的n型铝 镓铟磷限制层;
粗化暴露在上表面的部分n型铝镓铟磷限制层;
在n型砷化镓欧姆接触层上制作扩展电极,并且使得扩展电极完全 覆盖n型砷化镓欧姆接触层、并由上向下沿n型砷化镓欧姆接触层和n 型铝镓铟磷限制层侧壁延伸至n型铝镓铟磷限制层上表面粗化的局部区 域;扩展电极在氮气氛围下熔合,形成良好的欧姆接触,并增强扩展电 极的粘附性;
5)在n型铝镓铟磷限制层上制作焊盘,并且焊盘与扩展电极保持电学连接。
2.如权利要求1一种包覆式扩展电极发光二极管的制作方法,其中图案化n型 砷化镓欧姆接触层的蚀刻液选自H3PO4、NH4OH、H2O2或前述的任意组合之一。
3.如权利要求1一种包覆式扩展电极发光二极管的制作方法,其中粗化n型铝 镓铟磷限制层的溶液选自HCl、HBr、HI、Br2、I2或前述的任意组合之一。
4.如权利要求1一种包覆式扩展电极发光二极管的制作方法,其中扩展电极材 料选自由Au、AuGe、Ni和Ti所组成的物质组中的一种。
5.如权利要求1一种包覆式扩展电极发光二极管的制作方法,其中永久基板材 料选自于Si、SiC、Cu和Al所组成的物质组中的一种。
6.如权利要求1一种包覆式扩展电极发光二极管的制作方法,其中接合层材料 选自In、Sn、AuSn和AuGe所组成的物质组中的一种。
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