[发明专利]有机发光二极管显示器及其制造方法有效
申请号: | 201010105368.6 | 申请日: | 2010-01-28 |
公开(公告)号: | CN101859792A | 公开(公告)日: | 2010-10-13 |
发明(设计)人: | 俆祥准;南基贤 | 申请(专利权)人: | 三星移动显示器株式会社 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/52;H01L21/82;H01L51/56 |
代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人: | 王琦;王珍仙 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 有机 发光二极管 显示器 及其 制造 方法 | ||
1.一种有机发光二极管显示器,包括
基板主体;
有机发光二极管,所述有机发光二极管形成在所述基板主体上;
湿气吸收层,所述湿气吸收层形成在所述基板主体上并覆盖所述有机发光二极管;
第一阻挡层,所述第一阻挡层形成在所述基板主体上并覆盖所述湿气吸收层;
第一辅助阻挡层,所述第一辅助阻挡层形成在所述湿气吸收层和所述第一阻挡层之间;
第二阻挡层,所述第二阻挡层形成在所述基板主体上并覆盖所述第一阻挡层;和
第二辅助阻挡层,所述第二辅助阻挡层形成在所述第一阻挡层和所述第二阻挡层之间。
2.根据权利要求1所述的有机发光二极管显示器,其中所述湿气吸收层由包括选自由一氧化硅、一氧化钙、一氧化钡和它们的组合构成的组中的一种的材料形成。
3.根据权利要求2所述的有机发光二极管显示器,其中所述湿气吸收层通过热蒸发工艺形成。
4.根据权利要求3所述的有机发光二极管显示器,其中所述热蒸发工艺通过使用真空蒸发法进行。
5.根据权利要求1所述的有机发光二极管显示器,其中所述第一阻挡层和所述第二阻挡层各自由包括选自由Al2O3、TiO2、ZrO、SiO2、AlON、AlN、SiON、Si3N4、ZnO、Ta2O5和它们的组合构成的组中的一种的材料形成。
6.根据权利要求5所述的有机发光二极管显示器,其中所述第一阻挡层和所述第二阻挡层各自通过原子层沉积法形成。
7.根据权利要求6所述的有机发光二极管显示器,其中所述第一阻挡层和所述第二阻挡层由彼此不同的材料形成。
8.根据权利要求7所述的有机发光二极管显示器,其中所述第一辅助阻挡层通过所述第一阻挡层和所述湿气吸收层之间的反应在所述第一阻挡层和所述湿气吸收层之间的界面形成,且包括所述第一阻挡层的至少部分组分和所述湿气吸收层的至少部分组分。
9.根据权利要求7所述的有机发光二极管显示器,其中所述第二辅助阻挡层通过所述第二阻挡层和所述第一阻挡层之间的反应在所述第二阻挡层和所述第一阻挡层之间的界面形成,且包括所述第二阻挡层的至少部分组分和所述第一阻挡层的至少部分组分。
10.根据权利要求1所述的有机发光二极管显示器,其中所述湿气吸收层、所述第一辅助阻挡层、所述第一阻挡层、所述第二辅助阻挡层和所述第二阻挡层形成保护所述有机发光二极管的薄膜封装层,且所述薄膜封装层的整体厚度在1nm~1000nm的范围内。
11.一种有机发光二极管显示器的制造方法,包括:
在基板主体上形成有机发光二极管;
通过热蒸发工艺形成覆盖所述有机发光二极管的湿气吸收层;
通过原子层沉积法形成覆盖所述湿气吸收层的第一阻挡层;
通过所述第一阻挡层和所述湿气吸收层之间的反应在所述第一阻挡层和所述湿气吸收层之间的界面形成第一辅助阻挡层;
通过原子层沉积法形成覆盖所述第一阻挡层的第二阻挡层;和
通过所述第二阻挡层和所述第一阻挡层之间的反应在所述第二阻挡层和所述第一阻挡层之间的界面形成第二辅助阻挡层。
12.根据权利要求11所述的有机发光二极管显示器的制造方法,其中所述湿气吸收层由包括选自由一氧化硅、一氧化钙、一氧化钡和它们的组合构成的组中的一种的材料形成。
13.根据权利要求12所述的有机发光二极管显示器的制造方法,其中所述热蒸发工艺包括真空蒸发法。
14.根据权利要求13所述的有机发光二极管显示器的制造方法,其中所述湿气吸收层通过沉积由二氧化硅和硅气体的反应形成的一氧化硅而形成。
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H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
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H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
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