[发明专利]投影系统无效

专利信息
申请号: 201010105489.0 申请日: 2010-01-19
公开(公告)号: CN101819327A 公开(公告)日: 2010-09-01
发明(设计)人: 徐坚镪 申请(专利权)人: 苏州佳世达光电有限公司;佳世达科技股份有限公司
主分类号: G02B27/18 分类号: G02B27/18;G03B21/14;G03B21/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215011 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 投影 系统
【权利要求书】:

1.一种投影系统,其特征在于包含:

光源,用以发出第一光线;

聚光装置,包含光圈以及透镜,该光圈以及该透镜依序接收该第一光线并产生第二光线自该聚光装置射出;

成像装置,包含场透镜以及反射光阀,该反射光阀邻近该场透镜,该场透镜以及该反射光阀依序接收该第二光线并产生出射光瞳;以及

投影镜头,该投影镜头具有入射光瞳,该入射光瞳与该出射光瞳重叠。

2.根据权利要求1所述的投影系统,其特征在于:所述聚光装置进一步包含光路改变单元,用以改变该第二光线的方向。

3.根据权利要求1所述的投影系统,其特征在于:所述投影系统进一步包含准直装置,用以接收该第一光线并使该第一光线形成平行光,其中该准直装置进一步包含准直透镜以及合光板。

4.根据权利要求1所述的投影系统,其特征在于:所述入射光瞳的尺寸大于或等于该出射光瞳的尺寸。

5.根据权利要求1所述的投影系统,其特征在于:该场透镜及该反射光阀形成等效场透镜,用来产生该出射光瞳,该等效场透镜等效于该场透镜及该反射光阀依序接收该第二光线,且该反射光阀反射该第二光线至该场透镜。

6.根据权利要求5所述的投影系统,其特征在于:所述等效场透镜具有主平面,该主平面至该光圈的距离定义为u,该主平面至该出射光瞳的距离定义为v,并且v/u<1。

7.根据权利要求5所述的投影系统,其特征在于:该场透镜为薄透镜。

8.根据权利要求7所述的投影系统,其特征在于:该场透镜的焦距定义为f1,该场透镜至该反射光阀的距离定义为d,该等效场透镜的焦距定义为f1′,并且f1′、f1以及d的关系为f1′=f12/(2f1-2d)。

9.一种投影系统,其特征在于包含:

光圈;

透镜,邻近该光圈;

光路改变单元;

场透镜;

反射光阀,邻近该场透镜,光线依序经由该光圈以及该透镜后经由该光路改变单元改变方向投射至该反射光阀产生影像光束,该影像光束经由该场透镜产生出射光瞳;以及

投影镜头,该投影镜头具有入射光瞳,该入射光瞳与该出射光瞳重叠。

10.根据权利要求9所述的投影系统,其特征在于:该场透镜及该反射光阀形成等效场透镜,用来产生该出射光瞳,该等效场透镜等效于该场透镜及该反射光阀依序接收该光线,且该反射光阀发射该影像光束至该场透镜。

11.根据权利要求10所述的投影系统,其特征在于:该等效场透镜具有主平面,该主平面至该光圈的距离定义为u,该主平面至该出射光瞳的距离定义为v,并且v/u<1。

12.根据权利要求11所述的投影系统,其特征在于:该场透镜的焦距定义为f1,该场透镜至该反射光阀的距离定义为d,该等效场透镜的焦距定义为f1′,并且f1′、f1以及d的关系为f1′=f12/(2f1-2d)。

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