[发明专利]由含铜溶液制备氧化铜的方法

权利要求书

1.一种由含铜溶液制备氧化铜的方法，包括下列步骤：

取得该含铜溶液；

调整该含铜溶液的pH值以形成具有一第一pH值的一第一含铜溶液，其中在该第一pH值的条件下，该含铜溶液的一铁离子形成一含铁沉淀物以进行分离。

调整该第一含铜溶液的该第一pH值以形成具有一第二pH值的一第二含铜溶液及一第一含铜沉淀物；

将该第一含铜沉淀物形成具有一第三pH值的一第三含铜溶液及一第二含铜沉淀物；以及

分离该第三含铜溶液及该第二含铜沉淀物，其中该第二含铜沉淀物包括氧化铜。

2.如权利要求1所述的由含铜溶液制备氧化铜的方法，其特征在于，该第一pH值介于3至6。

3.如权利要求2所述的由含铜溶液制备氧化铜的方法，其特征在于，该第二pH值介于7至8.5。

4.如权利要求3所述的由含铜溶液制备氧化铜的方法，其特征在于，该第三pH值介于11至13.5。

5.如权利要求1或2中任一项所述的由含铜溶液制备氧化铜的方法，其特征在于，在调整该含铜溶液的pH值以形成具有该第一pH值的该第一含铜溶液步骤中，还包括下列步骤：

加入一电荷增强剂至该一含铜溶液；

加入一高分子凝集剂至该含铜溶液；以及

过滤该含铜溶液。

6.如权利要求5所述的由含铜溶液制备氧化铜的方法，其特征在于，在过滤该含铜溶液以移除该铁化物并形成具有该第一pH值的该第一含铜溶液步骤后，还包括下列步骤：

加入一活性炭至该第一含铜溶液中并在充分接触反应后移除该活性炭。

7.如权利要求1或3中的任一项所述的由含铜溶液制备氧化铜的方法，其特征在于，该第一含铜沉淀物包括碱式氯化铜、氧化铜和/或其它铜化合物。

8.如权利要求1所述的由含铜溶液制备氧化铜的方法，其特征在于，在调整该第一含铜溶液的该第一pH值以形成具有该第二pH值的该第二含铜溶液及该第一含铜沉淀物步骤后，还包括下列步骤：

分离该第二含铜溶液及该第一含铜沉淀物，并移除该第二含铜溶液；以及

将该第一含铜沉淀物水洗后再移除该第一含铜沉淀物的水分。

9.如权利要求1或8中任一项所述的由含铜溶液制备氧化铜的方法，其特征在于，该第二含铜沉淀物还包括氢氧化铜，且在分离该第三含铜溶液及该第二含铜沉淀物的步骤后，还包括下列步骤：

将该第二含铜沉淀物水洗后再移除该第二含铜沉淀物的水分；以及

微波加热该第二含铜沉淀物以得到一粗制氧化铜。

10.如权利要求9所述的由含铜溶液制备氧化铜的方法，其特征在于，在微波加热该第二含铜沉淀物以得到该粗制氧化铜步骤后，还包括下列步骤：

粉碎该粗制氧化铜以形成一氧化铜粉末，其中该氧化铜粉末的粒径介于100目至250目之间；

将该氧化铜粉末置于水中并进行超声波清洗；以及

将该氧化铜粉末移除水分。

11.如权利要求10所述的由含铜溶液制备氧化铜的方法，其特征在于，在将该氧化铜粉末移除水分步骤中，使用一离心分离机使该氧化铜粉末去除水分和/或以一低碳数醇类充分接触反应该氧化铜粉末并再分离以去除该氧化铜粉末所含的水分。

12.如权利要求1所述的由含铜溶液制备氧化铜的方法，其特征在于，该含铜溶液为一电路板制备过程中的一蚀刻废液及一微蚀刻废液。