[发明专利]MWIR/LWIR双波段成像光谱仪无效
申请号: | 201010106888.9 | 申请日: | 2010-02-09 |
公开(公告)号: | CN101813521A | 公开(公告)日: | 2010-08-25 |
发明(设计)人: | 孙强;刘英;王健;吴宏圣 | 申请(专利权)人: | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
主分类号: | G01J3/427 | 分类号: | G01J3/427;G01J3/02;G01J3/18 |
代理公司: | 长春菁华专利商标代理事务所 22210 | 代理人: | 赵炳仁 |
地址: | 130033 吉*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | mwir lwir 波段 成像 光谱仪 | ||
1.一种MWIR/LWIR双波段成像光谱仪,其特征在于:包括设置在同一机体上的谐衍射透镜(1)、在该谐衍射透镜的出射光路上与其光轴平行设置的一台制冷型焦平面探测器(2)和一台前端设有孔径光阑(6)的非制冷型焦平面探测器(3),通过视频线与上述两台焦平面探测器(2、3)相连接的计算机系统;所述的两台焦平面探测器(2、3)设置在一可沿垂直于所述谐衍射透镜(1)光轴方向移动的横向滑台(4)上,横向滑台(4)设置在可沿平行于谐衍射透镜(1)光轴方向移动的纵向滑台(5)上,两台焦平面探测器(2、3)和谐衍射透镜(1)的光轴处在同一水平面上,驱动两滑台(4、5)的步进电机通过串行线与所述的计算机系统控制相连。
2.根据权利要求1所述的MWIR/LWIR双波段成像光谱仪,其特征在于所述的谐衍射透镜(1)的谐衍射面加工在透镜1的后表面上,以保护面型不受外界环境所污染。
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