[发明专利]一种光控碳化硅光电导开关无效

专利信息
申请号: 201010108982.8 申请日: 2010-02-11
公开(公告)号: CN102157597A 公开(公告)日: 2011-08-17
发明(设计)人: 黄维;常少辉;陈之战;施尔畏 申请(专利权)人: 中国科学院上海硅酸盐研究所
主分类号: H01L31/09 分类号: H01L31/09;H01L31/0224;H01L31/18
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 彭茜茜;白益华
地址: 200050*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 光控 碳化硅 电导 开关
【权利要求书】:

1.一种光控碳化硅(SiC)光电导开关,其特征在于,包括如下部件:

-光电导晶片,所述光电导晶片为碳化硅晶片,具有以下抛光良好的晶面,且其中各个面的偏角范围不超过10度:

至少一个(1100)m面;

至少两个(1120)a面;

其中(1100)m面或(1120)a面是与激发光源光学连接的朝光面,以及

-与所述(1120)a面或(1100)m面电学连接的电极,且

当所述(1100)m面作为朝光面时,所述电极与所述(1120)a面电学连接;

当所述(1120)a面作为朝光面时,所述电极与所述(1100)m面电学连接,此时所述光电导晶片具有至少一个1120a面,至少两个(1100)m面。

2.按权利要求1所述的光电导开关,其特征在于,所述碳化硅晶片为长方体片状结构。

3.按权利要求2所述的光电导开关,其特征在于,所述碳化硅晶片的长方体片状结构包括:

朝光面和背光面为(1100)m面、四个侧面分别为(1120)a面和(0001)c面,其中各个面的偏角范围不超过10度;

更优选地,所述碳化硅晶片为长方体状的方形薄片,厚度为0.1mm~5mm,也即所述(1120)a面和(0001)c面的高度为0.1mm~5mm。

4.按权利要求2所述的光电导开关,其特征在于,所述长方体片状结构包括:

朝光面为(1120)a面、四个侧面分别为(1100)m面和(0001)c面;背光面为(1100)m面,其中各个面的偏角范围不超过10度。

5.按权利要求2所述的光电导开关,其特征在于,所述长方体片状结构的长度l、宽度w、高度h的比例为:30~20∶10~2∶1。

6.按权利要求1所述的光电导开关,其特征在于,所述电极由单质金属和保护金属组成,所述单质金属选自Ta、Ti、W、Cr、Co、Zn、或Al,所述保护金属选自Al、Cu、Au或其组合。

7.按权利要求1所述的光电导开关,其特征在于,所述碳化硅晶片和电极之间沉积有半导体薄膜。

8.按权利要求1所述的光电导开关,其特征在于,所述激发光源选自紫外光(波长为200nm~380nm)、绿色光源(波长为520nm~550nm)或红色光源(波长为650nm~1100nm)。

9.按权利要求1所述的光电导开关,其特征在于碳化硅晶片选自4H或6H晶型的碳化硅晶片。

10.按权利要求1所述的光电导开关,其特征在于,所述开关的耐压值范围为10kV~50kV,峰值电流范围为100A~3000A。

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