[发明专利]一种生产半夏胚状体和组培苗的方法有效
申请号: | 201010113222.6 | 申请日: | 2010-02-23 |
公开(公告)号: | CN102160523A | 公开(公告)日: | 2011-08-24 |
发明(设计)人: | 许鸿章;许鸿源;解云英;陈汝贤;梁琼月 | 申请(专利权)人: | 中国医学科学院医药生物技术研究所 |
主分类号: | A01H4/00 | 分类号: | A01H4/00 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 王朋飞 |
地址: | 100050*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 生产 半夏 胚状体 组培苗 方法 | ||
技术领域
本发明属一种简单高效生产半夏胚状体和组培苗的方法。
背景技术
半夏为天南星科多年生草本植物,《中国药典》收载的半夏为Pinellia ternata(Thunb)Briet,是一种重要的传统中药材和出口物资,其块茎炮制后具有燥湿化痰、降逆止呕,消痞散结之功效,生用外治痈肿。由于半夏以地下块茎入药,随市场需求不断增加,滥采乱挖十分严重,使得野生资源岌岌可危。为解决资源保护与市场需求的矛盾,近些年对半夏组培快繁技术的研究与应用在国内迅速展开。综合多途径检索的结果表明,目前各单位无论用球茎、叶片、叶柄或珠芽,何种材料作外植体,都要选用两种或两种以上的生长调节剂(有时被泛称“激素”),主要有细胞分裂素(CTK)中的N6-苄基腺嘌呤(BA)或激动素(KT),生长素(Auxin)中的2,4-二氯苯氧乙酸(2,4-D)、萘乙酸(NAA)、吲哚乙酸(IAA)、或吲哚丁酸(IBA)等,再按不同浓度与配比复配成几种成分各不相同的培养基,分别用于“外植体启动”、“愈伤组织诱导”、“胚状体诱导”、“成苗诱导”、“增殖扩繁”和“生根”等不同的生产环节。整个生产程序比较繁杂,而且胚状体的诱导率一般只有40-50%,30d为一个周期,组培苗的繁殖倍数也只有5-10,效率偏低。
灵发素(Lingfasu,LFS;代号PGR-08)是一种新型生长调节剂,它同时具有CTK和Auxin两类激素的生物活性,用它配制成的单一培养基,已经成功建立了三七(见《中国中药杂志》,2007年32卷6期,PP.481-483.)、罗汉果(见《种子》,2006年25卷8期,PP.4-6)和翅子罗汉果(见《种子》,2008年27卷12期,PP.12-14),等名贵中药材组培苗简单高效的生产方法。但是,尚未检索到用于半夏胚状体和组培苗生产的资料。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种简单高效生产半夏胚状体和组培苗的方法。
本发明以如下技术方案解决上述技术问题:
申请人利用灵发素(Lingfasu,LFS;代号PGR-08)同时具有CTK和Auxin两类激素生物活性的特点,经过对其使用浓度的反复筛选,将LFS 0.3mg·L-1(0.05-2.0均为有效浓度)添加到常规MS固体培养基中,以半夏叶柄切段(或其它离体器官)为继代扩繁材料,进行常规组织培养。由于只用MS+LFS 0.3mg·L-1这种单一培养基就能取代常规要用两种或两种以上生长调节剂配制成的多种培养基,一次性完成“外植体启动”、“愈伤组织诱导”、“胚状体诱导”、“成苗诱导”、“增殖扩繁”和“生根”等多个技术环节,特别是能诱导叶柄切段(一端或两端)形成胚性愈伤组织并直接分化出大量胚状体,诱导率达80-100%,既能为半夏人工种子的研制提供人工胚,又能继续促其萌发建成组培苗(若叶柄切段已有珠芽原基,还可使珠芽提前萌发成苗),组培苗繁殖倍数达10-20,或者更高。从而实现简单高效地生产半夏胚状体和组培苗。
具体实施方式
以下实施例用于说明本发明,但不用来限制本发明的范围。
实施例
申请人利用LFS同时具有CTK和Auxin两类激素生物活性的特点,经过对适宜浓度的反复筛选及与常规方法的比较研究发现:用MS+LFS 0.3mg·L-1这种单一培养基,以半夏球茎为外植体,按照常规培养获得无菌苗后,取其叶柄切段(或叶片等其它离体器官)为继代扩繁材料,仍用这种单一培养基继代培养,能诱导叶柄切段一端或两端迅速形成胚性愈伤组织并分化出胚状体,诱导率达80-100%;胚状体可用于制备人工种子,亦能继续萌发生长成为组培苗。一次继代培养,组培苗(未萌发的胚状体及苗高≤2cm者不计)增殖倍数可达10-20,或更高。若叶柄切段已有珠芽原基,珠芽亦可萌发成苗。
因此,以MS+LFS 0.3mg·L-1这种单一培养基取代常规使用的几种不同的培养基可以简单高效地生产半夏胚状体与组培苗。
虽然,上文中已经用一般性说明及具体实施方案对本发明作了详尽的描述,但在本发明基础上,可以对之作一些修改或改进,这对本领域技术人员而言是显而易见的。因此,在不偏离本发明精神的基础上所做的这些修改或改进,均属于本发明要求保护的范围。
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