[发明专利]图案检查方法及装置、光掩模制造方法以及图案转印方法

权利要求书

1.一种图案检查方法，对在透明基板上形成有由周期排列的单位图 案构成的重复图案的光掩模的图案不均进行检查，其特征在于，该图案 检查方法包括下述步骤：

照射步骤，利用预定的光束照射所述重复图案；

傅里叶变换像检测步骤，借助预定的光学系统来检测傅里叶变换像， 该傅里叶变换像与通过所述光束照射所述重复图案而产生的衍射光对 应；以及

图案不均判定步骤，根据所检测出的所述傅里叶变换像，判定所述 光掩模有无图案不均，

当将所述光束的波长定义为λμm、将所述单位图案的间距定义为ω μm、将含有所述图案不均的该单位图案的间距定义为ω’μm、将所述光 学系统的焦距定义为f mm、将检测所述傅里叶变换像的傅里叶变换面的 分辨率定义为p mm、将n次的所述衍射光与0次的所述衍射光构成的角 度定义为θn deg、将所述单位图案的间距为ω、ω’时的各个n次衍射光的 受光面上的位置差异定义为Δh’时，在所述傅里叶变换像检测步骤中，对 与所述衍射光中的满足下述条件的n次的所述衍射光对应的傅里叶变换 像进行检测，

Δh’＝f(tan(Δθn))>p

其中，Δθn＝sin^-1(nλ／ω)-sin^-1(nλ／ω’)。

2.根据权利要求1所述的图案检查方法，其特征在于，当将检测所 述傅里叶变换像的傅里叶变换面的法线、与在所述照射步骤中照射所述 光束的照明光学系统的光轴构成的角度定义为θi时，满足0<θi<90。

3.根据权利要求1所述的图案检查方法，其特征在于，在所述照射 步骤中照射的所述光束是至少在空间上实质上相干且单波长的平行光 束。

4.根据权利要求1所述的图案检查方法，其特征在于，在所述图案 不均判定步骤中，将在所述傅里叶变换像检测步骤中检测出的傅里叶变 换像与预定的基准像进行比较，根据比较结果判定所述光掩模有无图案 不均。

5.根据权利要求1所述的图案检查方法，其特征在于，

在一次可检查的检查区域比所述光掩模的整个检查对象区域窄时， 移动所述光掩模而连续地扫描所述检查区域，并对该检查区域实施所述 照射步骤、所述傅里叶变换像检测步骤、所述图案不均判定步骤的各个 步骤，判定所述光掩模有无图案不均。

6.一种光掩模制造方法，在掩模坯体上形成预定的掩模图案来制造 光掩模，其特征在于，

所述光掩模制造方法包括实施权利要求1所述的图案检查方法来判 定形成了所述掩模图案的光掩模有无图案不均的步骤。

7.一种图案转印方法，其特征在于，

使用实施权利要求6所述的光掩模制造方法而制造出的光掩模，将 所述掩模图案转印到转印对象基板上。