[发明专利]用于从基片上除去光致抗蚀剂和/或蚀刻残留物的组合物及其应用

权利要求书

1.用于除去光致抗蚀剂和/或蚀刻残留物的组合物，所述组合 物包含：

a)50％重量或大于50％重量的包含二醇醚的有机溶剂和辅助 有机溶剂，其中至少50％的有机溶剂是二醇醚，并且其中所述辅 助有机溶剂包含至少一种选自C₂-C₂₀烷二醇、C₃-C₂₀烷三醇、环 状醇或取代的醇的有机溶剂，其中所述环状醇是二元醇或多元醇， 并且所述取代的醇是二元醇或多元醇；

b)0.5％重量-15％重量的季铵化合物；和

c)大于0至最高达20％重量的腐蚀抑制剂，其中所述腐蚀抑 制剂是至少一种选自有机酸、有机酸盐、酚、三唑类化合物、羟基 胺化合物和羟基胺化合物酸式盐及其混合物的抑制剂。

2.权利要求1的组合物，其中所述二醇醚包含二醇一(C₁-C₆) 烷基醚。

3.权利要求1的组合物，其中所述二醇醚包含(C₁-C₂₀)烷二醇 (C₁-C₆)烷基醚或(C₁-C₂₀)烷二醇二(C₁-C₆)烷基醚。

4.权利要求1的组合物，其中所述二醇醚选自乙二醇一甲醚、 乙二醇一乙醚、乙二醇一丁醚、乙二醇二甲醚、乙二醇二乙醚、二 甘醇一甲醚、二甘醇一乙醚、二甘醇一丙醚、二甘醇一异丙醚、二 甘醇一丁醚、二甘醇一异丁醚、二甘醇一苄醚、二甘醇二甲醚、二 甘醇二乙醚、三甘醇一甲醚、三甘醇二甲醚、二甘醇甲乙醚、乙二 醇一乙醚乙酸酯、丙二醇一甲醚、丙二醇二甲醚、丙二醇一丁醚、 丙二醇一丙醚、一缩二丙二醇一甲醚、一缩二丙二醇一丙醚、一缩 二丙二醇一异丙醚、一缩二丙二醇一丁醚、一缩二丙二醇二异丙醚、 二缩三丙二醇一甲醚、1-甲氧基-2-丁醇、2-甲氧基-1-丁醇、2-甲氧 基-2-甲基丁醇、1，1-二甲氧基乙烷和2-(2-丁氧基乙氧基)乙醇。

5.权利要求1的组合物，其中所述二醇醚选自丙二醇一甲醚、 丙二醇一丙醚和二缩三丙二醇一甲醚。

6.权利要求1的组合物，其中所述季铵化合物包含C₁-C₄季铵 化合物。

7.权利要求1的组合物，其中所述季铵化合物选自氢氧化四 甲基铵、氢氧化四乙基铵、氢氧化四丙基铵、氢氧化四丁基铵、氢 氧化三甲基乙基铵、氢氧化(2-羟基乙基)三甲基铵、氢氧化(2-羟基 乙基)三乙基铵、氢氧化(2-羟基乙基)三丙基铵和氢氧化(1-羟基丙基) 三甲基铵。

8.权利要求1的组合物，其中所述季铵化合物包含氢氧化四 甲基铵。

9.权利要求1的组合物，其中所述二醇醚的量为组合物重量 的至少50％。

10.权利要求1的组合物，其中所述二醇醚的量为组合物重量 的约50％-约60％。

11.权利要求1的组合物，其中所述季铵化合物的量为组合物 重量的0.5％-5％。

12.权利要求1的组合物，其中所述辅助有机溶剂包含丙二醇。

13.权利要求12的组合物，其中丙二醇的量为0.1％-40％重 量。

14.权利要求1或5的组合物，其中所述组合物不含有含氟化 合物。

15.权利要求1或5的组合物，其中所述组合物还含有含氟化 合物。

16.权利要求1或5的组合物，其中所述组合物还包含大于0 至最高达40％重量的水。

17.权利要求1或5的组合物，其中所述腐蚀抑制剂包含羟基 胺或其酸式盐或其混合物。

18.权利要求17的组合物，其中所述羟基胺包含二乙基羟基 胺或其酸式盐或其混合物。