[发明专利]分析用具的反应槽的指定方法

说明书

本案是申请号为200580023567.X、发明名称为分析用具、分析用具的反应槽的指 定方法和分析装置的专利申请的分案申请

技术领域

本发明涉及在具有反应槽的分析用具中，指定目标反应槽的技术。

背景技术

作为试料的分析方法，例如有利用光学方法或电化学方法分析使 试料和试药反应时的反应液的方法。在利用这些方法进行试料的分析 的情况下，使用提供反应场的分析用具。分析用具是安装在分析反应 液用的分析装置中而被使用。另外，在分析微量试料的情况下，作为 分析用具，利用的是形成有微细流路的所谓的微型装置。

作为微型装置的一个例子，有全体形成为圆盘状，在同一圆周上 配置多个反应槽的装置(参照专利文献1)。这种微型装置，可利用多 个反应槽，并使用不同的试料来进行同一项目(被检测成分)的分析， 或者使用相同的试料进行多个项目的分析。另一方面，在分析装置中， 必须识别各反应槽与哪种试料对应，或者与哪个分析项目对应。

然而，从装置小型化和降低制造成本的观点出发，作为微型装置 的安装对象的分析装置，不同时在多个反应槽中进行试料的分析，而 是形成为具有固定在装置中的一个分析机构的结构。在这种情况下， 在分析装置中，将微型装置放置在旋转工作台上的状态下，使微型装 置与旋转工作台一起旋转，改变反应槽的位置，并且利用分析机构， 对每个反应槽个别地进行试料分析。另外，在分析装置中，通过将微 型装置定位放置在旋转工作台上，而可以设在旋转工作台或与旋转工 作台连接的旋转轴上的标记为基准，检测微型装置的各反应槽的位置 (参照专利文献2、3)。

在使用如微型装置那样的小型分析用具的情况下，由于各反应槽 较小，因此，在分析装置中要求更高的位置检测精度。这是因为当利 用如微型装置一样的小型分析用具来指定反应槽的位置时，更容易受 到分析用具的尺寸公差或分析用具在旋转工作台上的定位误差的影 响，实际的反应槽的位置和检测的反应槽的位置之间的相对误差量大， 考虑到这点，要求较高的位置检测精度。然而，为了达到较高的检测 精度，不但需要昂贵的检测机构，而且检测机构变得复杂或大型化。 其结果是，产生了无论使用的分析用具是否为小型化，但分析装置也 不能小型化的问题。

专利文献1：日本特开平10-2875号公报

专利文献2：日本特开平11-233594号公报

专利文献3：日本特开2002-284342号公报

发明内容

本发明的目的在于提供一种在具有多个反应槽的分析用具中，能 够利用简单且廉价的结构来指定目标反应槽。

在本发明的第一方面中，提供一种分析用具，其具有保持试料和 试药的反应液的多个反应槽，还具有识别该分析用具的指定部位用的 基准部。

多个反应槽例如被配置在同一圆周上，基准部被配置在与多个反 应槽相同的圆周上。在这种情况下，基准部例如在上述圆周上互相邻 接的反应槽之间形成，并且包含与上述圆周方向并列的多个线条部。 多个线条部以等间隔或大致等间隔并列地配置。在这种情况下，多个 反应槽的间隔被设定为多个线条部的间隔的非整数倍。

各线条部例如构成为凹部。凹部沿上述圆周方向的截面例如形成 为V字形。各凹部的截面也可以为V字形以外的形状，例如为矩形或 半圆形。另外，线状部也可以构成为凸部。在这种情况下，凸部沿上 述圆周方向的截面形状例如为V字形、矩形或半圆形。

基准部的反射率也可以与其他部位不同。例如，基准部可以由反 射率比其他部位高的材料形成。

基准部构成为至少包含凸部或凹部。在分析用具保持在分析装置 的旋转工作台上来使用的结构的情况下，基准部例如在将该分析用具 相对于旋转工作台进行定位时而被使用。

本发明的分析用具可以还包括为了识别目标反应槽而与该反应槽 对应设置的识别部。识别部构成为包含例如与所述基准部形状不同的 凸部或凹部。

本发明的第二方面提供一种分析用具的反应槽的位置指定方法， 能够在具有保持试料和试药的反应液用的多个反应槽的分析用具中， 指定上述各反应槽的位置，其中，在上述分析用具中设置有用于识别 上述分析用具的指定部位的基准部，通过识别上述基准部来指定上述 各反应槽的位置。