[发明专利]显示器件及其制造方法

权利要求书

1.一种制造显示器件的方法，该方法包括：

在第一基板上形成底电极；

在所述底电极上形成包括凹陷图案的域形成层，所述凹陷图案在像素区 中提供液晶域；

在所述域形成层上形成像素电极；

在第二基板的整个表面上形成公共电极；

在所述第一基板与所述第二基板之间设置液晶组合物材料，所述液晶组 合物材料包括液晶分子和活性液晶元单体；以及

通过施加光到设置在所述第一基板与所述第二基板之间的所述液晶分 子和所述活性液晶元单体而形成液晶层，其中在施加所述光时第一电压施加 到所述公共电极，第二电压施加到所述像素电极，并且第三电压施加到所述 底电极，

其中所述第二电压大于所述第一电压并且小于所述第三电压。

2.根据权利要求1所述的方法，还包括形成开关元件，所述开关元件包 括电连接到所述像素电极的接触电极，并且

其中所述凹陷图案暴露所述接触电极。

3.根据权利要求2所述的方法，还包括在所述第一基板上形成存储线， 所述存储线与所述接触电极交叠。

4.根据权利要求3所述的方法，其中所述底电极由透射电极层形成。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述域形成层包括至少一个滤色 器。

6.根据权利要求5所述的方法，其中所述域形成层包括形成在所述至少 一个滤色器上的图案层，所述图案层包括所述凹陷图案。

7.根据权利要求1所述的方法，还包括形成开关元件，所述开关元件包 括电连接到所述像素电极的接触电极，并且

其中所述域形成层还包括暴露所述接触电极的接触孔，所述接触电极接 触所述像素电极。

8.根据权利要求1所述的方法，还包括在所述第二基板上形成突起，该 突起在与所述凹陷图案相应的区域中。

9.根据权利要求1所述的方法，其中至少两个凹陷图案形成在所述第一 基板的所述像素区中。

10.根据权利要求9所述的方法，还包括形成反射电极，该反射电极形 成在部分所述像素区。

11.根据权利要求1所述的方法，还包括形成光阻挡图案，该光阻挡图 案形成在与所述凹陷图案相应的区域中，所述光阻挡图案由一金属层形成， 该金属层还用于形成电连接到所述像素电极的开关元件。