[发明专利]一种抗刮擦涂层及其制备方法

权利要求书

1.一种抗刮擦涂层的制备方法，其步骤如下：

1)制备带有负电荷的构筑基元水溶液；

2)将经表面修饰后带有电荷的基底，交替置于带有负电荷的构筑基元 水溶液和带有正电荷的构筑基元水溶液中，利用层状组装技术制备 厚度可控的层状组装膜涂层；

3)将厚度可控的层状组装膜涂层置于80～250℃温度条件下热处理，即 在基底上得到抗刮擦涂层；

其中，步骤1)中所述的带有负电荷的构筑基元水溶液是包含弱聚阴 离子、钙离子和碳酸根离子的复合溶液，其中，弱聚阴离子的浓度为 0.02～1.5mol/L，钙离子的浓度为0.01～2mol/L，碳酸根离子的浓度为弱 聚阴离子浓度的10％～90％；

或者，步骤1)中所述的带有负电荷的构筑基元水溶液是包含弱聚阴 离子、钙离子和碳酸根离子的复合溶液，其中，弱聚阴离子的浓度为 0.02～1.5mol/L，碳酸根离子的浓度为0.01～2mol/L，钙离子的浓度为弱 聚阴离子浓度的10％～90％；弱聚阴离子为聚丙烯酸在水中电离生成的弱 聚阴离子；

带有正电荷的构筑基元水溶液为弱聚阳离子的水溶液，其浓度为 0.1～10mg/mL，pH值为5.5～9.5，弱聚阳离子为聚烯丙基胺盐酸盐、线 性聚乙烯基胺或支化聚乙烯基胺中的一种或多种在水中电离生成的弱聚 阳离子。

2.如权利要求1所述的一种抗刮擦涂层的制备方法，其特征在于：表面修饰 后带有电荷的基底，是指按溶剂极性从小到大的顺序用多种溶剂对基底依 次进行清洗，然后通过自组装方法、聚电解质吸附法或化学反应法在基底 表面上引入有利于多层膜制备的氨基、羧基或羟基基团，从而使基底的表 面带有电荷。

3.如权利要求1所述的一种抗刮擦涂层的制备方法，其特征在于：是将表面 修饰后带有电荷的基底交替置于带有负电荷的构筑基元水溶液和带有正 电荷的构筑基元水溶液中各浸泡2～30min，并用浸泡或冲洗的方法去除 基底表面每次浸泡后物理吸附的构筑基元，从而完成一个周期的层状组装 膜的制备；重复以上步骤5～50个周期，从而在基底上利用层状组装技术 制备厚度可控的层状组装膜涂层；再将所制得的涂层经100～220℃热处 理1～10小时，即制得透明的高硬度的抗刮擦涂层。

4.由权利要求1～3任一项所述的制备方法得到的抗刮擦涂层。