[发明专利]具有排热结构的垂直结构发光二极管的形成方法有效
申请号: | 201010117652.5 | 申请日: | 2010-03-04 |
公开(公告)号: | CN102097542B | 公开(公告)日: | 2011-06-15 |
发明(设计)人: | 陈学龙;枫政国;张简庆华;陈彰和 | 申请(专利权)人: | 华新丽华股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;H01L33/64 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 施浩 |
地址: | 中国台湾桃园县杨*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 结构 垂直 发光二极管 形成 方法 | ||
1.一种具有排热结构的垂直结构发光二极管的形成方法,其特征在于,包 括以下步骤:
a)提供蓝宝石基板;
b)在蓝宝石基板上制造多个凹部,其深度为p;
c)形成具有多个凸部的缓冲层,凸部的深度q小于p,以致当缓冲层的凸部 容纳于蓝宝石基板的凹部时,在其间形成多个间隙,以利排热;
d)在缓冲层上生长多个发光层,具有形成于多个发光层和缓冲层间的介质 层;
e)蚀刻穿透多个发光层和缓冲层来形成通道,以利排热;
f)通过准分子激光剥离来移除蓝宝石基板;
g)粗化介质层;以及
h)在粗化的介质层上沉积电极。
2.根据权利要求1的具有排热结构的垂直结构发光二极管的形成方法,其特 征在于,所述凹部通过光蚀刻工艺、湿蚀刻工艺、或干蚀刻工艺所形成。
3.根据权利要求1的具有排热结构的垂直结构发光二极管的形成方法,其特 征在于,所述缓冲层的形状取决于其生长压力、生长时间、和生长温度的参数, 并通过金属有机化学气相沉积法来沉积。
4.根据权利要求1的具有排热结构的垂直结构发光二极管的形成方法,其特 征在于,所述凹部在蓝宝石基板上形成条状或点状图案。
5.根据权利要求1的具有排热结构的垂直结构发光二极管的形成方法,其特 征在于,所述凹部的深度p大于1μm,凸面形成于蓝宝石基板上任两相邻的凹 部间,其剖面形状为底角大于60°的等腰梯形,任两相邻的凸面距离小于1μm。
6.根据权利要求1的具有排热结构的垂直结构发光二极管的形成方法,其特 征在于,所述缓冲层由使用于蓝光LED的未掺杂氮化镓或使用于紫光LED的氮化 铝所制成。
7.一种具有排热结构的垂直结构发光二极管的形成方法,其特征在于,包 括以下步骤:
a)提供蓝宝石基板;
b)在蓝宝石基板上制造多个凹部,其宽度为m;
c)形成具有多个凸部的缓冲层,凸部的宽度n小于m,以致当缓冲层的凸部 容纳于蓝宝石基板的凹部时,在其间形成多个间隙,以利排热;
d)在缓冲层上生长多个发光层,具有形成于多个发光层和缓冲层间的介质 层;
e)蚀刻穿透多个发光层和缓冲层来形成通道,以利排热;
f)通过准分子激光剥离来移除蓝宝石基板;
g)粗化介质层;以及
h)在粗化的介质层上沉积电极。
8.根据权利要求7的具有排热结构的垂直结构发光二极管的形成方法,其特 征在于,所述凹部通过光蚀刻工艺、湿蚀刻工艺、或干蚀刻工艺所形成。
9.根据权利要求7的具有排热结构的垂直结构发光二极管的形成方法,其特 征在于,所述缓冲层的形状取决于其生长压力、生长时间、和生长温度的参数。
10.根据权利要求7的具有排热结构的垂直结构发光二极管的形成方法, 其特征在于,所述凹部在蓝宝石基板上形成条状或点状图案。
11.根据权利要求7的具有排热结构的垂直结构发光二极管的形成方法, 其特征在于,所述缓冲层由使用于蓝光LED的未掺杂氮化镓或使用于紫光LED的 氮化铝所制成。
12.根据权利要求7的具有排热结构的垂直结构发光二极管的形成方法, 其特征在于,缓冲层是通过金属有机化学气相沉积法来沉积。
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