[发明专利]具有排热结构的垂直结构发光二极管的形成方法有效

专利信息
申请号: 201010117652.5 申请日: 2010-03-04
公开(公告)号: CN102097542B 公开(公告)日: 2011-06-15
发明(设计)人: 陈学龙;枫政国;张简庆华;陈彰和 申请(专利权)人: 华新丽华股份有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L33/64
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 施浩
地址: 中国台湾桃园县杨*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 具有 结构 垂直 发光二极管 形成 方法
【权利要求书】:

1.一种具有排热结构的垂直结构发光二极管的形成方法,其特征在于,包 括以下步骤:

a)提供蓝宝石基板;

b)在蓝宝石基板上制造多个凹部,其深度为p;

c)形成具有多个凸部的缓冲层,凸部的深度q小于p,以致当缓冲层的凸部 容纳于蓝宝石基板的凹部时,在其间形成多个间隙,以利排热;

d)在缓冲层上生长多个发光层,具有形成于多个发光层和缓冲层间的介质 层;

e)蚀刻穿透多个发光层和缓冲层来形成通道,以利排热;

f)通过准分子激光剥离来移除蓝宝石基板;

g)粗化介质层;以及

h)在粗化的介质层上沉积电极。

2.根据权利要求1的具有排热结构的垂直结构发光二极管的形成方法,其特 征在于,所述凹部通过光蚀刻工艺、湿蚀刻工艺、或干蚀刻工艺所形成。

3.根据权利要求1的具有排热结构的垂直结构发光二极管的形成方法,其特 征在于,所述缓冲层的形状取决于其生长压力、生长时间、和生长温度的参数, 并通过金属有机化学气相沉积法来沉积。

4.根据权利要求1的具有排热结构的垂直结构发光二极管的形成方法,其特 征在于,所述凹部在蓝宝石基板上形成条状或点状图案。

5.根据权利要求1的具有排热结构的垂直结构发光二极管的形成方法,其特 征在于,所述凹部的深度p大于1μm,凸面形成于蓝宝石基板上任两相邻的凹 部间,其剖面形状为底角大于60°的等腰梯形,任两相邻的凸面距离小于1μm。

6.根据权利要求1的具有排热结构的垂直结构发光二极管的形成方法,其特 征在于,所述缓冲层由使用于蓝光LED的未掺杂氮化镓或使用于紫光LED的氮化 铝所制成。

7.一种具有排热结构的垂直结构发光二极管的形成方法,其特征在于,包 括以下步骤:

a)提供蓝宝石基板;

b)在蓝宝石基板上制造多个凹部,其宽度为m;

c)形成具有多个凸部的缓冲层,凸部的宽度n小于m,以致当缓冲层的凸部 容纳于蓝宝石基板的凹部时,在其间形成多个间隙,以利排热;

d)在缓冲层上生长多个发光层,具有形成于多个发光层和缓冲层间的介质 层;

e)蚀刻穿透多个发光层和缓冲层来形成通道,以利排热;

f)通过准分子激光剥离来移除蓝宝石基板;

g)粗化介质层;以及

h)在粗化的介质层上沉积电极。

8.根据权利要求7的具有排热结构的垂直结构发光二极管的形成方法,其特 征在于,所述凹部通过光蚀刻工艺、湿蚀刻工艺、或干蚀刻工艺所形成。

9.根据权利要求7的具有排热结构的垂直结构发光二极管的形成方法,其特 征在于,所述缓冲层的形状取决于其生长压力、生长时间、和生长温度的参数。

10.根据权利要求7的具有排热结构的垂直结构发光二极管的形成方法, 其特征在于,所述凹部在蓝宝石基板上形成条状或点状图案。

11.根据权利要求7的具有排热结构的垂直结构发光二极管的形成方法, 其特征在于,所述缓冲层由使用于蓝光LED的未掺杂氮化镓或使用于紫光LED的 氮化铝所制成。

12.根据权利要求7的具有排热结构的垂直结构发光二极管的形成方法, 其特征在于,缓冲层是通过金属有机化学气相沉积法来沉积。

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