[发明专利]光辅助方法制备铜铟镓硒薄膜太阳电池光吸收层有效
申请号: | 201010118289.9 | 申请日: | 2010-03-05 |
公开(公告)号: | CN101814553A | 公开(公告)日: | 2010-08-25 |
发明(设计)人: | 黄富强;王耀明 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海硅酸盐研究所 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 200050 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 辅助 方法 制备 铜铟镓硒 薄膜 太阳电池 光吸收 | ||
技术领域
本发明涉及化合物半导体薄膜的制备方法,更确切地说涉及铜铟镓硒(CIGS)薄膜太阳电池光吸收层的制备方法,属于光伏材料新能源技术领域。
背景技术
铜铟镓硒(Cu(In,Ga)Se2,简称CIGS)薄膜太阳电池是新一代最有前途的太阳电池,它具有成本低、效率高、寿命长、弱光性能好、抗辐射能力强等多方面的优点。自上世纪90年代以来,CIGS在所有薄膜太阳电池中,就一直是实验室转换效率最高的薄膜太阳电池。2008年4月,美国可再生能源实验室(NREL)又将其实验室最高转换效率刷新为19.9%(Ingrid Repins,Miguel A.Contreras,Brian Egaas,Clay DeHart,John Scharf,Craig L.Perkins,Bobby To and Rommel Noufi,Progress in Photovoltaics:Research andApplications,16(3),235-239,2008),与多晶硅的实验室最高转换效率20.3%已非常接近,展示出诱人的发展前景。
CIGS光吸收层的制备是CIGS薄膜太阳电池的核心工艺。NREL制备高效CIGS太阳电池光吸收层的工艺为三步共蒸发法(A.M.Gabor,J.R.Tuttle,D.S.Albin,M.A.Contreras,and R.Noufi,Appl.Phys.Lett.65,198,1994),采用三步共蒸发法所制备的小面积CIGS光吸收层薄膜,虽然制备的CIGS光吸层的质量高、性能好,但由于需要对铜、铟、镓、硒四个蒸汽压相差非常大的单质源进行独立精确的控制,尤其是硒的反蒸发和铟镓硒化合物的反蒸发,对薄膜成分的控制带来了非常大的困难,在制备大面积CIGS光吸收层薄膜时难以保证薄膜成分均匀性和质量的可靠性,因而难以实现大规模生产。
先采用磁控溅射Cu-In-Ga预制合金膜,然后热处理硒化的工艺是目前CIGS薄膜太阳电池产业化的首选工艺,但该方法通常采用H2Se等剧毒的Se源,对环境污染很大,对生产设备的要求也很高;若采用固态单质Se源时,由于Se蒸汽的反应活性低,Cu-In-Ga预制合金膜与Se蒸汽反应时容易生成中间成分而导致In、Ga等元素的挥发,从而导致薄膜的均匀性和重复性都难以控制。所以不能以H2Se或固态单质Se作为制备CIGS薄膜太阳能电池Se的单质源。
另一方面考虑到,每摩尔Se-Se单键的键能为172kJ,相当于每根Se-Se单键的键能为1.54eV,每摩尔Se=Se双键的键能为272kJ,相当于每根Se=Se双键的键能为2.42eV。Se蒸汽分子是由Se-Se单键和Se=Se双键等方式键合而成的,若采用光子能量大于2.42eV(即波长小于445nm)的光辐照Se蒸汽,则可望有效地将Se蒸汽光解为Se原子团或Se自由基。这些被光解的Se原子团或Se自由基,都具有非常高的反应活性,不仅使Se原子团或Se自由基与Cu-In-Ga预制合金膜的反应温度显著降低,而且又可以有效地抑制挥发性强的中间成分相的生成。本发明正是以此为基础,实现了大面积CIGS薄膜的低温制备和制备工艺的稳定。
发明内容
本发明的目的在于提供CIGS薄膜太阳电池光吸收层的一种制备方法,采用本发明提供的制备方法不但可以提高大面积CIGS薄膜制备工艺的稳定性和成分的均匀性,提高CIGS薄膜太阳电池的光电转换效率,而且可以实现光吸收层薄膜的低温制备。
本发明的目的是通过如下技术方案实现的:
CIGS薄膜太阳电池光吸收层的一种制备方法,其特征在于先制备Cu-In-Ga预制合金膜,然后将Cu-In-Ga预制合金膜在光辅助下经硒化反应而生成CIGS薄膜。具体步骤如下:
(1)制备Cu-In-Ga预制合金膜:在衬底上通过磁控溅射法,采用低Ga含量的CuGa合金靶和In靶同时或先后溅射,或高Ga含量的CuGa合金靶和CuIn合金靶同时或先后溅射,或CuInGa合金靶溅射,制备Cu-In-Ga预制合金膜;
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的