[发明专利]基板处理装置及基板处理方法

权利要求书

1.一种基板处理装置，该基板处理装置向基板供给第1处 理液而实施显影处理这样的液处理，回收上述第1处理液而利 用第2处理液对上述基板进行清洗，其特征在于，

包括：

基板输送路径，其以平流方式输送上述基板；

第1处理液供给部件，向在上述基板输送路径中输送的上 述基板供给第1处理液；

气体供给部件，其朝向铅垂方向至输送方向下游侧中的任 一方向，向在上述基板输送路径中输送的、被供给上述第1处 理液后的上述基板的基板表面吹出沿着基板宽度方向以直线状 延伸的帘幕状的气流；

第1冲洗液供给部件，其以喷出时的拍击变小的流速向在 上述基板输送路径中输送的、被上述气体供给部件吹过气流后 的上述基板的基板表面供给上述第2处理液；

第2冲洗液供给部件，以比上述第1冲洗液供给部件高的流 速向被上述第1冲洗液供给部件供给上述第2处理液后的、在上 述基板输送路径中输送的上述基板的基板表面供给上述第2处 理液。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

上述基板输送路径具有形成水平的输送路径的第1输送区 间、形成与上述第1输送区间连续的向上倾斜的输送路径的第2 输送区间、和形成与上述第2输送区间连续的向下倾斜的输送 路径的第3输送区间；

上述第1处理液供给部件设置于上述第1输送区间，上述气 体供给部件设置于上述第2输送区间，上述第1冲洗液供给部件 及上述第2冲洗液供给部件配置在由上述第2输送区间和上述 第3输送区间形成于输送路径上的隆起部的上方。

3.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

上述第2冲洗液供给部件具有喷出上述第2处理液的冲洗 喷嘴；

上述冲洗喷嘴以对于在上述基板输送路径中输送的基板的 基板表面、其喷出方向朝向铅垂方向至输送方向下游侧中的任 一方向的状态配置。

4.一种基板处理方法，该基板处理方法向基板供给第1处 理液而实施显影处理这样的液处理，回收上述第1处理液而利 用第2处理液对上述基板进行清洗，其特征在于，

执行以下步骤：

在基板输送路径中以平流方式输送上述基板，向基板上供 给第1处理液；

朝向铅垂方向至输送方向下游侧中的任一方向，向在上述 基板输送路径中输送的、被供给上述第1处理液后的上述基板 的基板表面吹出沿着基板宽度方向以直线状延伸的帘幕状的气 流；

以喷出时的拍击变小的流速向被吹过上述气流后的、在上 述基板输送路径中输送的上述基板的基板表面供给上述第2处 理液；

以更高的流速向被在上述步骤中供给上述第2处理液后 的、在上述基板输送路径中输送的上述基板的基板表面供给上 述第2处理液。

5.根据权利要求4所述的基板处理方法，其特征在于，

朝向铅垂方向至输送方向下游侧中的任一方向向被供给上 述第1处理液后的上述基板的基板表面吹出沿着基板宽度方向 以直线状延伸的帘幕状的气流的步骤是对在向上倾斜的上述基 板输送路径中输送的上述基板执行的。

6.根据权利要求5所述的基板处理方法，其特征在于，

以更高的流速向以上述喷出时的拍击变小的流速供给第2 处理液后的、在上述基板输送路径中输送的上述基板的基板表 面供给上述第2处理液的步骤，是对在与上述向上倾斜的基板 输送路径连续的向下倾斜的基板输送路径中输送的上述基板执 行的。

7.根据权利要求4～6中任一项所述的基板处理方法，其特 征在于，

朝向铅垂方向至输送方向下游侧中的任一方向向在上述基 板输送路径中输送的基板的基板表面喷上述第2处理液。