[发明专利]一种自适应高阶横模激光相干合成装置有效

专利信息
申请号: 201010121534.1 申请日: 2010-03-10
公开(公告)号: CN101794962A 公开(公告)日: 2010-08-04
发明(设计)人: 杨平;许冰;董理治;雷翔 申请(专利权)人: 中国科学院光电技术研究所
主分类号: H01S3/16 分类号: H01S3/16;H01S3/10
代理公司: 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 代理人: 成金玉;贾玉忠
地址: 610209 *** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 自适应 高阶横模 激光 相干 合成 装置
【权利要求书】:

1.一种自适应高阶横模激光相干合成装置,其特征在于包括:固体激光器(1)、光束匹配系统(2)、变形镜(3)、分光反射镜(4)、衰减系统(5)、聚焦透镜(6)、CCD相机(7)、计算机(8)和高压放大器(9);固体激光器(1)输出的高阶横模激光经过光束匹配系统(2)扩束入射到变形镜(3)上,经变形镜(3)反射的光束再经过分光反射镜(4)分光,绝大多数能量的光束被反射输出,少数能量的透射光经过衰减系统(5)和聚焦透镜(6)会聚到CCD相机(7)上,内置于计算机(8)的优化算法用来处理计算机采集到的CCD相机(7)上的光斑信号,沿着使光斑峰值光强增大的方向,不断迭代计算出所需要的控制电压,该控制电压经过高压放大器(9)放大后加载在变形镜(3)的各个驱动器上,驱动变形镜(3)产生相应的形变,补偿高阶横模激光整体波前相位中的畸变、补偿高阶横模光束各节线两侧旁瓣π相位跃变、使高阶横模激光各个旁瓣在远场实现很好的相干合成,从而提升高阶横模激光束的相干特性,实现单台高阶横模激光相干合成输出;所述的变形镜(3)能校正前65阶zernike多项式表征的波前像差,既能产生π相位,又能产生各种复杂的波前相位,能够补偿高阶横模激光各旁瓣的π相位跃变以及整体波前相位中的畸变; 

所述的优化算法采用随机并行梯度下降算法SPGD,优化算法要优化的目标为CCD相机上焦斑的峰值光强,按照峰值光强增大的方向不断迭代更新电压值,具体实现步骤如下: 

(A)确定性能指标 

以CCD相机上焦斑的峰值光强值为优化目标,同时作为性能指标J(k)=J(uk1,uk2,...,ukn),其中,uk1,uk2,...,ukn为在第k代运行时加载到变形镜上的电压值,下标n代表变形镜的驱动器编号; 

(B)在确定了性能指标后,随机产生一组相互独立且同为伯努利分布的扰动电压值δuk1,δuk2,...,δukn,并将该组电压值施加在uk1,uk2,...,ukn上; 

(C)在当前电压值uk1,uk2,...,ukn上施加扰动电压δuk1,δuk2,...,δukn,然后计算正方向性能指标J+(k)=J(uk1+δuk1,uk2+δuk2,...,ukn+δukn)和负向性能指标 

J-(k)=J(uk1-δuk1,uk2-δuk2,...,ukn-δukn); 

(D)计算uik+1=uik+γδuki(Jk+-Jk-),i=1,2,…n,其中i表示变形镜驱动器的序号,γ是增益系数,δ为扰动系数;γ取值范围为0.001—0.5,δ取值范围为0.01—1; 

(E)判断是否满足算法结束条件,如果满足则结束算法迭代过程;如果不满足则进行第k+1次迭代,转步骤(A)。 

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