[发明专利]一种硅片清洗液及使用该清洗液清洗硅片的方法无效
| 申请号： | 201010121960.5 | 申请日： | 2010-03-10 |
| 公开（公告）号： | CN101942365A | 公开（公告）日： | 2011-01-12 |
| 发明（设计）人： | 肖剑峰;张晨;吴叶军;周体 | 申请（专利权）人： | 宁波太阳能电源有限公司 |
| 主分类号： | C11D7/26 | 分类号： | C11D7/26;C11D7/14;B08B3/08 |
| 代理公司： | 宁波奥圣专利代理事务所(普通合伙) 33226 | 代理人： | 程晓明 |
| 地址： | 315040 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 硅片 清洗 使用 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种硅片清洗液，其特征在于主要由乙醇、丙酮、硅酸钠及去离子水经混合配制而成，所述的乙醇的质量百分比浓度为7～12％，所述的丙酮的质量百分比浓度为3～7％，所述的硅酸钠的质量百分比浓度为1～3％，余量为所述的去离子水。
2.根据权利要求1所述的一种硅片清洗液，其特征在于所述的乙醇的质量百分比浓度为10％，所述的丙酮的质量百分比浓度为5％，所述的硅酸钠的质量百分比浓度为2％，余量为所述的去离子水。
3.一种使用权利要求1所述的硅片清洗液清洗硅片的方法，其特征在于包括以下步骤：
①用去离子水清洗硅片；
②用权利要求1所述的硅片清洗液清洗硅片。
4.根据权利要求3所述的一种清洗硅片的方法，其特征在于所述的步骤②中清洗硅片时硅片清洗液的温度为40～55℃。
5.根据权利要求3或4所述的一种清洗硅片的方法，其特征在于所述的步骤②中清洗硅片的时间为4～8分钟。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宁波太阳能电源有限公司，未经宁波太阳能电源有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010121960.5/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
