[发明专利]一种分子印迹聚合物及其制法与应用有效

专利信息
申请号: 201010122775.8 申请日: 2010-03-05
公开(公告)号: CN101787123A 公开(公告)日: 2010-07-28
发明(设计)人: 邓宗武;陆枫;汪莲艳;英晓芳;吴福全 申请(专利权)人: 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
主分类号: C08G73/02 分类号: C08G73/02;C08G73/06;C08G61/12;C08J9/26;B01J20/285;B01J20/30;G01N31/20
代理公司: 南京苏科专利代理有限责任公司 32102 代理人: 陈忠辉
地址: 215125 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 分子 印迹 聚合物 及其 制法 应用
【权利要求书】:

1.一种分子印迹聚合物薄膜,其特征在于:用石英微天平或表面等离子 体共振器件的金薄膜表面用电化学方法直接合成所述印迹聚合物薄膜,所述聚 合物的印迹和洗脱对象均为金属螯合物,所述金属螯合物为以EDTA为螯合剂 制备得到的金属络合物离子。

2.根据权利要求1所述的一种分子印迹聚合物薄膜,其特征在于:所述 金属络合物离子中金属离子至少包括铜、锌、铅、铬、镉或汞;螯合剂与金属 离子的浓度比满足金属离子充分螯合。

3.根据权利要求1所述的一种分子印迹聚合物薄膜,其特征在于:制备 所述聚合物薄膜的单体为适合电化学聚合的单体,至少包括苯胺、邻苯二胺、 间苯二胺、对苯二胺、邻苯三胺、间苯三胺、对苯三胺、多巴胺、吡咯、吲 哚、噻吩中的一种或任意两种以上的混合物。

4.权利要求1所述一种分子印迹聚合物薄膜的制法,其特征在于包括步 骤:I、选用金属离子和螯合剂制备金属络合物离子,螯合剂与金属离子的浓 度比满足金属离子充分螯合;II、以金属络合物离子为模板,用石英微天平或 表面等离子体共振器件的金薄膜表面用电化学方法直接合成聚合物单体与金属 络合物粒子;III、将金属络合物粒子从聚合物中洗脱,得到分子印迹聚合物薄 膜。

5.权利要求1所述一种分子印迹聚合物薄膜的应用,其特征在于:与所 述分子印迹聚合物联用的技术设备包括石英微天平和表面等离子共振装置,在 所述该些技术设备的金属薄膜表面原位合成聚合物,再将所述金属络合物离子 洗脱,对需要检测的金属离子络合化后用分子印迹聚合物选择性吸附,检测金 属离子的种类及含量。

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