[发明专利]一种陶瓷擀面杖及其加工工艺无效

专利信息
申请号: 201010122985.7 申请日: 2010-03-12
公开(公告)号: CN102187884A 公开(公告)日: 2011-09-21
发明(设计)人: 王安英;岳孝清;徐东昌;孟姗姗;马宁;刘林杰 申请(专利权)人: 山东硅元新型材料有限责任公司
主分类号: A21C3/02 分类号: A21C3/02
代理公司: 济南舜源专利事务所有限公司 37205 代理人: 辛向东
地址: 266085 山东省*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 陶瓷 擀面杖 及其 加工 工艺
【权利要求书】:

1.一种陶瓷擀面杖,其特征是:它包括陶瓷擀面杖本体,擀面杖本体外表面附着有陶瓷釉层。

2.根据权利要求1所述的陶瓷擀面杖,其特征是:所述擀面杖本体的一端设置有插孔。

3.根据权利要求1或2所述的陶瓷擀面杖,其特征是:所述陶瓷釉层的厚度为:0.05-3mm。

4.如权利要求3所述的陶瓷擀面杖,其特征是:所述的陶瓷釉层的厚度优选0.3mm。

5.根据权利要求1或2所述的陶瓷擀面杖,其特征是,所述陶瓷釉层的外表面有装饰层。

6.如权利要求1所述的一种陶瓷擀面杖的加工工艺:按配方入球磨、泥浆测细度出磨过筛、高强度除铁器除铁、泥浆储存、成型、半成品干燥、修坯、第一次高温烧坯、素坯振动抛光、施釉、第二次釉烧、装饰、彩烤、成品,其特征在于:在成型工艺中,采用预先在成型模具内嵌入实体的工艺,在石膏模具内插入不吸水的圆柱状实体,因其不吸水,从而使产品一端形成一插孔,孔深1-6厘米,采用插烧工艺,保证产品表面的全面施釉。

7.如权利要求3所述的陶瓷擀面杖,其特征在于:所述的釉层由以下组分制备而成(按重量份计):二氧化硅62%-75%、氧化铝8%-21%、氧化钙0.2%-1%、氧化镁3%-5.1%、氧化钾4.8%-7.8%、氧化钠1.25%-1.99%、氧化钛1.2%-3.0%;其中二氧化硅中作为添加剂的熔融石英占10-28%。

8.如权利要求7所述的陶瓷擀面杖,其特征在于:挑选软质粘土即Fe2o3含量小于0.02的作为釉料粘合剂。

9.如权利要求3所述的陶瓷擀面杖,其特征在于:釉的研磨细度控制采用万孔筛,万孔筛余:0.02-0.04%。

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