[发明专利]半导体集成电路装置有效

专利信息
申请号: 201010123926.1 申请日: 2010-03-02
公开(公告)号: CN101860354A 公开(公告)日: 2010-10-13
发明(设计)人: 藤田哲也;萩原洋介 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: H03K17/72 分类号: H03K17/72
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 许玉顺;胡建新
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 集成电路 装置
【权利要求书】:

1.一种半导体集成电路装置,其特征在于,具备:

一个以上的第一晶体管,控制输入电源线和输出电源线之间的导通;

一个以上的第二晶体管,控制上述输入电源线和上述输出电源线之间的导通;

第一缓冲器,向与上述一个以上的第一晶体管连接的第一控制线供给第一控制信号,该第一控制信号用于驱动上述一个以上的第一晶体管;

第二缓冲器,经由上述第一控制线被供给上述第一控制信号而产生第二控制信号,并将该第二控制信号供给至与上述一个以上的第二晶体管连接的第二控制线,上述第二控制信号用于驱动上述一个以上的第二晶体管;以及

一个以上的电容器,连接在上述第一控制线和上述输出电源线之间。

2.根据权利要求1所述的半导体集成电路装置,其特征在于,

上述第一控制信号的电平变化所需的时间比上述第二控制信号的电平变化所需的时间长。

3.根据权利要求2所述的半导体集成电路装置,其特征在于,

包含上述一个以上的电容器的电容以及上述一个以上的第一晶体管的栅极电容在内的、与上述第一控制线连接的电容,是根据上述第一控制信号的转变的时间常数而设定的,上述第一控制信号的转变的时间常数用于规定上述第一控制信号的电平变化所需的时间。

4.根据权利要求1所述的半导体集成电路装置,其特征在于,

上述一个以上的第一晶体管、上述一个以上的第二晶体管、上述第一控制线、上述第二控制线以及上述一个以上的电容器包括有一个以上的第一电源开关部和一个以上的第二电源开关部,

所述一个以上的第一电源开关部具有上述一个以上的第一晶体管中的一个第一晶体管、上述一个以上的第二晶体管中的一个第二晶体管、上述第一控制线、第二控制线以及上述一个以上的电容器中的一个电容器,

所述一个以上的第二电源开关部具有上述一个以上的第一晶体管中的一个第一晶体管、上述一个以上的第二晶体管中的一个第二晶体管、上述第一控制线以及第二控制线。

5.根据权利要求4所述的半导体集成电路装置,其特征在于,

上述一个以上的第一电源开关部的个数是根据上述转变的时间常数而设定的。

6.根据权利要求1所述的半导体集成电路装置,其特征在于,

上述第一缓冲器具有与上述第一控制线连接的电阻成分,

上述电阻成分的电阻值是根据上述第一控制信号的转变的时间常数而设定的,上述第一控制信号的转变的时间常数用于规定上述第一控制信号的电平变化所需的时间。

7.根据权利要求6所述的半导体集成电路装置,其特征在于,

上述电阻成分是根据晶体管的对电阻而被提供的。

8.根据权利要求1所述的半导体集成电路装置,其特征在于,

上述第一缓冲器具有在上述输入电源线和基准电位点之间互补地连接的P型以及N型的晶体管,

上述P型以及N型晶体管的公共漏极与上述第一控制线连接。

9.权利要求1所述的半导体集成电路装置,其特征在于,

具备驱动电路,该驱动电路在利用来自上述第二缓冲器的上述第二控制信号而上述一个以上的第二晶体管变为导通的情况下,使上述第一控制信号强制性地变化为用于使上述一个以上的第一晶体管导通的电平。

10.根据权利要求1所述的半导体集成电路装置,其特征在于,

具备在上述第二控制线上设置的一个以上的第三缓冲器。

11.根据权利要求6所述的半导体集成电路装置,其特征在于,

上述第一缓冲器的上述电阻成分的电阻值根据上述输入电源线的电源电压而改变。

12.根据权利要求1所述的半导体集成电路装置,其特征在于,

上述一个以上的第二晶体管的等价的晶体管大小比上述一个以上的第一晶体管的等价的晶体管大小大。

13.根据权利要求12所述的半导体集成电路装置,其特征在于,

上述一个以上的第二晶体管的个数比上述一个以上的第一晶体管的个数多。

14.根据权利要求12所述的半导体集成电路装置,其特征在于,

上述一个以上的第二晶体管中的各个第二晶体管的晶体管大小比上述一个以上的第一晶体管中的各个第一晶体管的晶体管大小大。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社东芝,未经株式会社东芝许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010123926.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top