[发明专利]单层型电子照相感光体和图像形成装置有效

专利信息
申请号: 201010124936.7 申请日: 2010-03-01
公开(公告)号: CN101846895A 公开(公告)日: 2010-09-29
发明(设计)人: 岩下裕子;滨崎一也;丸尾敬司 申请(专利权)人: 京瓷美达株式会社
主分类号: G03G5/14 分类号: G03G5/14;G03G5/04;G03G15/00
代理公司: 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人: 王琦;王珍仙
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 单层 电子 照相 感光 图像 形成 装置
【说明书】:

技术领域

本发明涉及单层型电子照相感光体和图像形成装置。特别是涉及在高温高湿环境下可以有效地抑制黑点的产生,另一方面即使在低温低湿环境下也可以有效地保持优异的感光度特性的单层型电子照相感光体及使用这种单层型电子照相感光体的图像形成装置。

背景技术

近年来,由于要求廉价和低环境污染等,在复印机或激光打印机等使用了电子照相法的图像形成装置中使用的电子照相感光体广泛地使用利用了有机物的有机感光体。

这种有机感光体已知有将电荷发生层、电荷输送层层压而成的层压型电子照相感光体,和由单一层构成的单层型电子照相感光体。

其中,单层型电子照相感光体与层压型电子照相感光体相比,结构简单,因此生产容易的同时,成本方面也是有利的。

此外,单层型电子照相感光体与层压型电子照相感光体不同,在通过构成为带正电型电子照相感光体而可以抑制使用时的氧化性气体的产生方面也是有利的。

但是,使用单层型电子照相感光体时,以鼓圆周速度超过100mm/s来进行高速图像形成时,氧化性气体的影响增大,感光层表面易劣化。

此外,在感光层表面易产生残留调色剂引起的成膜。

其结果,由于感光层的耐压性易过度降低,特别是在高温高湿环境下,存在易产生漏电、或形成图像易产生黑点的问题。

因此,作为解决这种耐压性降低的方法,广泛使用在基体与感光层之间设置中间层的方法。

但是,设置中间层时,感光层中的电荷的迁移性易降低,因此特别是在低温低湿环境下,存在难以得到充分的感光度特性的问题。

因此,公开了即使在设置有中间层时,为了在低温低湿环境下得到充分的感光度特性,使中间层含有规定的微粒的单层型电子照相感光体(例如,专利文献1和2)。

即,在专利文献1中,公开了使中间层含有氧化钛微粒,且该氧化钛微粒的平均一次粒径在10~30nm的范围内,该氧化钛微粒用氧化铝、二氧化硅和有机硅化合物实施表面处理,且该氧化钛微粒表面的有机硅化合物的重量比例在4~9.5重量%的范围内的单层型电子照相感光体。

此外,在专利文献2中,公开了具有中间层的电子照相感光体,该中间层含有用氧化铝、二氧化硅和有机硅化合物实施了表面处理的氧化钛微粒,相对于铝蒸镀面的接触电位差为0V~0.6V。

专利文献1:日本特开2007-286484号公报

专利文献2:日本特开2002-287396号公报

但是,专利文献1公开的单层型电子照相感光体虽然成功地抑制了在低温低湿环境下进行对大量用纸的连续印字、即耐久印字之前和之后的感光度特性的变化,但是由于氧化钛微粒中的有机硅化合物的重量比例过大,存在初期感光度特性本身不充分的问题。

此外,专利文献2公开的电子照相感光体也存在不仅氧化钛微粒的粒径过度增大、而且氧化钛微粒中的有机硅化合物的重量比例过度增大,难以稳定地得到充分的初期感光度的问题。

因此,要求在高温高湿环境下可以有效地抑制黑点的产生,另一方面即使在低温低湿环境下,也可以有效地保持优异的感光度特性的单层型电子照相感光体。

发明内容

即,本发明的目的在于,提供在高温高湿环境下可以有效地抑制黑点的产生,另一方面即使在低温低湿环境下,也可以有效地保持优异的感光度特性的单层型电子照相感光体和使用这种单层型电子照相感光体的图像形成装置。

通过本发明,提供单层型电子照相感光体,具有基体、设置在所述基体上的感光层、和配置在所述基体与所述感光层之间的中间层,其特征在于,中间层含有粘结树脂和氧化钛微粒,且氧化钛微粒具有下述特性(a)~(c),从而可以解决上述问题。(a)氧化钛微粒的数均一次粒径为5~30nm范围内的值。(b)氧化钛微粒用氧化铝、二氧化硅和有机硅化合物实施表面处理。(c)氧化钛微粒表面的有机硅化合物的重量比例X(重量%)满足下述关系式(1)。

1(重量%)≤X<4(重量%)(1)

即,通过使具有规定的粒径、且实施了规定的表面处理的氧化钛微粒含有在中间层中,可以对中间层均匀地赋予适当范围的导电性。

因此,可以提高感光层的耐压性与电荷迁移性之间的平衡,因此在高温高湿环境下可以有效地抑制黑点的产生,另一方面即使在低温低湿环境下也可以有效地保持优异的感光度特性。

此外,构成本发明的单层型电子照相感光体时,感光层优选含有具有下述特性(A)和(B)的氧钛酞菁结晶作为电荷发生剂。

(A)在CuKα特征X射线衍射谱中,在布拉格角2θ±0.2°=27.2°具有主峰。

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