[发明专利]曝光装置及元件制造方法

权利要求书

1.一种曝光装置，在投影光学系统的像面侧形成液体的液浸区域，并 透过该投影光学系统与该液浸区域的液体使基板曝光，其特征在于具备：

测量形成该液浸区域的液体的溶存氮浓度的测量装置。

2.一种曝光装置，在投影光学系统的像面侧形成液体的液浸区域，并 透过该投影光学系统与该液浸区域的液体使基板曝光，其特征在于具备：

测量形成该液浸区域的液体中的生菌量的测量装置。

3.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于其具备用以供应该液 体的液体供应机构；

该测量装置，测量由该液体供应机构所供应的液体。

4.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于其具备用以供应该液 体的液体供应机构；

该测量装置，测量由该液体供应机构所供应的液体。

5.根据权利要求3所述的曝光装置，其特征在于其中所述的液体供应 机构具备：用来供应液体的供应口、与该供应口连接的供应流路、以及自 该供应流路途中分支的分支流路；

该测量装置，测量流经该分支流路的液体。

6.根据权利要求4所述的曝光装置，其特征在于其中所述的液体供应 机构具备：用来供应液体的供应口、与该供应口连接的供应流路、以及自 该供应流路途中分支的分支流路；

该测量装置，测量流经该分支流路的液体。

7.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于其具备用以回收该液 体的液体回收机构；

该测量装置，测量由该液体回收机构所回收的液体。

8.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于其具备用以回收该液 体的液体回收机构；

该测量装置，测量由该液体回收机构所回收的液体。

9.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于其具备以可移动方式 来保持该基板的基板载台；

该测量装置，设置在该基板载台。

10.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于其具备以可移动方式 来保持该基板的基板载台；

该测量装置，设置在该基板载台。

11.根据权利要求1至10中任一权利要求所述的曝光装置，其特征在 于其中所述的测量装置与曝光动作并行来测量该液体。

12.根据权利要求1至10中任一权利要求所述的曝光装置，其特征在 于其具备记忆装置，使该测量装置的测量结果与经过时间建立对应关系而 予以记忆。

13.根据权利要求1至10中任一权利要求所述的曝光装置，其特征在 于其依序对设定在该基板上的多个照射区域予以曝光；

且具备记忆装置，使该测量装置的测量结果与该照射区域建立对应关 系而予以记忆。

14.根据权利要求1至10中任一权利要求所述的曝光装置，其特征在 于其具备：

第1液体回收机构，用以回收液体；

第2液体回收机构，用以回收该第1液体回收机构未能完全回收的液 体；

检测装置，用以检测出该第2液体回收机构是否已回收液体；及

记忆装置，使该检测装置的检测结果与经过时间建立对应关系而予以 记忆。

15.根据权利要求1至10中任一权利要求所述的曝光装置，其特征在 于其具备控制装置，判断该测量装置的测量结果是否异常，并根据该判断 结果来控制曝光动作。

16.根据权利要求15所述的曝光装置，其特征在于其具备告知装置， 用以告知该测量装置的测量结果；

该控制装置，在该测量结果有异常时，以该告知装置来发出警告。

17.一种元件制造方法，其特征在于包含：

使用权利要求1至16中任一权利要求所述的曝光装置来使晶圆曝光的 动作；以及

处理已曝光的该晶圆的动作。