[发明专利]一种石墨烯基阻隔复合材料及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201010128271.7 申请日: 2010-03-17
公开(公告)号: CN101812194A 公开(公告)日: 2010-08-25
发明(设计)人: 王贤保;王敬超;徐春晖;万丽 申请(专利权)人: 湖北大学
主分类号: C08L23/06 分类号: C08L23/06;C08L23/12;C08L47/00;C08L23/20;C08L27/06;C08L27/14;C08L27/18;C08L25/06;C08K9/06;C08K9/04;C08K3/04
代理公司: 武汉凌达知识产权事务所(特殊普通合伙) 42221 代理人: 宋国荣
地址: 430062 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 石墨 阻隔 复合材料 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种石墨烯基阻隔复合材料的制备方法,其特征在于具体步骤如下:

①石墨烯的功能化修饰:首先将氧化石墨烯分散在去离子水中超声分散, 超声分散的时间为10分钟~2小时,超声频率为20~100赫兹;然后在磁力搅 拌下,加入偶联剂反应1~10小时,搅拌速度为100~3000转/每分钟,反应温 度为20~120℃;接着加入还原剂,反应1~10小时;最后抽滤,产物用去离子 水反复洗涤,在烘箱中20~120℃干燥5~20小时,即得功能化修饰的石墨烯; 其中,偶联剂的用量为氧化石墨烯用量重量的5-50倍,还原剂的用量为氧化石 墨烯用量重量的5-50倍;

②石墨烯基阻隔复合材料的制备:首先在溶剂中加入聚烯烃,机械搅拌0.5~ 5小时,使其完全溶解,搅拌速度为100~3000转/每分钟;然后加入聚烯烃用 量的0.1wt%~10wt%的功能化修饰的石墨烯和0.01wt%~1wt%的引发剂,在 50~120℃,继续搅拌1~10小时;接着抽滤,产品在烘箱中60~150℃干燥10~ 30小时;最后用平板硫化机压制成片,即得石墨烯基纳米阻隔复合材料。

2.如权利要求1所说的石墨烯基纳米阻隔复合材料的制备方法,其特征在 于加入的偶联剂为3-氯丙基甲基二甲氧基硅烷、3-氯丙基三甲氧基硅烷、3-氨丙 基三乙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、三乙氧基硅烷、3-巯丙基三乙氧基硅烷、 N-2-氨乙基-3-氨丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、N-环己基-y-氨丙基 甲基三甲氧基硅烷、3-缩水甘油丙基三甲氧基硅烷、钛酸酯偶联剂中的一种或几 种。

3.如权利要求1或2所说的石墨烯基纳米阻隔复合材料的制备方法,其特 征在于步骤②中所选用的溶剂为乙醇、甲醇、四氢呋喃、二甲基亚砜、N,N-二甲 基甲酰胺、丙酮、甲苯、环己烷、氯仿、二氯亚砜、四氯化碳中的一种或其几种。

4.如权利要求1或2所说的石墨烯基纳米阻隔复合材料的制备方法,其特 征在于所用的还原剂为水合肼、5wt%氢氧化钠水溶液、氨水、5wt%氢氧化钾水 溶液中的一种几种。

5.如权利要求1或2所说的石墨烯基纳米阻隔复合材料的制备方法,其特 征在于所选用的引发剂为过氧化苯甲酰、偶氮二异丁腈、过硫酸钾、叔丁基过氧 化氢、偶氮二异庚腈。

6.由权利要求1所述制备方法得到的石墨烯基阻隔复合材料。

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