[发明专利]循环使用挡片的方法

权利要求书

1.一种循环使用挡片的方法，所述挡片dummy wafer用于置入离子注入机，监控离子注入机注入剂量的正确性，该方法包括：

对挡片进行N次预定剂量的离子注入，每次预定剂量的离子注入用于监控每次使用离子注入机时，其注入剂量的正确性，N为自然数；

当N次所述离子注入后，挡片内离子注入的积累剂量达到E17原子每平方厘米时，对该挡片注入与所述离子注入相反类型的元素，所述相反类型元素的剂量为E17原子每平方厘米。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，当离子注入的元素类型为P型时，与所述离子注入相反类型的元素为N型；当离子注入的元素类型为N型时，与所述离子注入相反类型的元素为P型。

3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述挡片内离子注入的积累剂量达到E17原子每平方厘米的确定方法为：

离子注入机的计量装置对离子注入的剂量进行积累计量，根据所述积累计量结果确定挡片内离子注入的剂量是否达到E17原子每平方厘米。

4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述离子注入的束电流大于1毫安mA。

5.如权利要求4所述的方法，其特征在于，所述挡片的数量为多个。