[发明专利]带有空气净化装置的光照射装置

说明书

技术领域

本发明涉及照射紫外线的光照射装置，特别涉及在将半导体或彩色过滤器曝光的曝光装置的光源部中使用、为了防止透镜或反射镜等的光学部件的污染而具备将光照射装置内的空气(气体)净化的装置的光照射装置。

背景技术

以往，在具备水银灯、反射镜或透镜等的光学部件的照明光学装置中，指出了在光学部件上附着粉末等、反射率或透射率下降的问题。

例如，在专利文献1的0009段中记载了，在具备水银灯、反射镜或透镜等的光学部件的照明光学装置中，在其内部的光学部件上附着硫酸铵((NH₄)₂SO₄)的白色的粉末，使反射率或透射率下降(以下也称作污染)的情况。

此外，在该公报的0016～0027段中，还示出了作为该污染的原因的硫酸铵的生成过程。

专利文献1：日本特许第3309867号公报

在专利文献1中，作为生成硫酸铵的基础物质，示出了在空气中存在的微量的二氧化硫(SO₂)和氨(NH₃)。

示出了它们在来自照明光学装置的水银灯的紫外线作用下反应、并与空气中的氧(O₂)和水(H₂O)结合、生成硫酸铵的过程。

在专利文献1中，提出了用带通滤波器从由光源灯放射的光之中将作为硫酸铵生成的原因的二氧化硫所吸收的波长的光去除的方法。但是，带通滤波器使本来在曝光中需要的波长的光的强度也下降，而且较昂贵。

作为防止硫酸铵的产生的另一种方法，还可以考虑通过使用化学过滤器将作为生成硫酸铵的基础物质的二氧化硫(SO₂)和氨(NH₃)从光照射装置内的空气中除去的方法。即，只要使向光照射装置内送入的空气通过吸收氨及硫氧化物(SO_X)的化学过滤器就可以。

但是，用于这样的目的的化学过滤器一般较昂贵，并且必须定期地更换，带来装置的运行成本的上升。

这样，为了防止光照射装置内的光学部件被硫酸铵污染而提出了一些方案，但分别具有优点及缺点。

所以，希望在在光照射装置中有不使曝光所需要的波长的光的强度降低、包括运行成本在内尽量便宜、但是能够可靠地防止硫酸铵的产生的空气的净化系统。

发明内容

本发明是鉴于上述情况而做出的，目的是提供一种不使曝光所需要的波长的光的强度降低、能够便宜且可靠地将光照射装置内的空气(气体)净化、能够防止透镜或反射镜等的光学部件的污染的带有空气净化装置的光照射装置。

本发明者此次进一步研究了生成硫酸铵的基础物质、特别是硫氧化物(SO_X)及它与空气中的水分结合后的硫酸(H₂SO₄)是因何产生的。

结果发现，清洗装置的、特别是作为液晶基板的清洗液使用的二甲基亚砜((CH₃)₂SO：简称作DMSO)是其原因之一。这样的清洗装置多数情况下设置在工厂的与设置光照射装置的楼层相同的楼层上。

二甲基亚砜(以下称作DMSO)可溶于水，作为不易污染环境的材料而在基板等的清洗中使用。DMSO可以分解处理而废弃，但在其分解处理过程中作为中间物质而产生二甲基硫醚((CH₃)₂S：简称作DMS)。该二甲基硫醚(以下称作DMS)不溶于水。即，在使用DMSO作为清洗液的工厂中，成为在其气体环境中(空气之中)容易含有DMS的状态。

并且，发明者进一步调查，结果显示，如果对空气中的DMS照射紫外线(波长400nm以下的光)，则虽然详细的反应过程不清楚，但会分解而产生硫氧化物(SO_X)或硫酸(H₂SO₄)。如果产生硫氧化物或硫酸，则如在专利文献1中记载那样，再与空气中的氨及水分发生化学反应，生成作为上述污染的原因的硫酸铵。

如上所述，使用DMSO作为清洗液的工厂的空气容易含有DMS，所以成为与通常相比更容易通过照射紫外线生成硫酸铵的状态。

即，放置在这样的工厂内的光照射装置处于更容易发生硫酸铵带来的污染的状况。因而，为了防止光照射装置内的光学部件的因硫酸铵造成的污染，需要从进入到光照射装置内的空气之中不仅将二氧化硫及氨、还将DMS也除去。