[发明专利]偏振元件及其制造方法、投射型显示装置、液晶装置、电子设备有效
申请号: | 201010130245.8 | 申请日: | 2010-03-05 |
公开(公告)号: | CN101900849A | 公开(公告)日: | 2010-12-01 |
发明(设计)人: | 熊井启友 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30;G02F1/1335;G03B21/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 张宝荣 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 偏振 元件 及其 制造 方法 投射 显示装置 液晶 装置 电子设备 | ||
1.一种偏振元件,其特征在于,具备,
基板、
在所述基板的一面侧以平面视成大致条纹状所设置的多个凸条部、
在各所述凸条部沿着所述凸条部的延伸方向所设置的金属细线,
多个所述金属细线各自包含在所述凸条部的短边方向的两侧面中的一侧面所设置的第一细线、和在另一侧面所设置的第二细线,并且所述第一细线和所述第二细线在所述凸条部的上端部重叠,
各所述凸条部所设置的所述第一细线的体积在从所述基板的一端侧远离的方向上连续减少,各所述凸条部所设置的所述第二细线的体积在从所述基板的一端侧远离的方向上连续增加,
所述第一细线的体积和所述第二细线的体积之和即所述金属细线的体积的离散偏差是在规定范围内。
2.如权利要求1所述的偏振元件,其特征在于,
所述离散偏差按以所述金属细线的体积的平均值为基准计是在±4%的范围内。
3.如权利要求1或2所述的偏振元件,其特征在于,
所述第一细线的体积在从所述基板的一端侧远离的方向上线性减少,
所述第二细线的体积在从所述基板的一端侧远离的方向上线性增加。
4.如权利要求1~3中任一项所述的偏振元件,其特征在于,
具备覆盖所述凸条部和所述金属细线的保护膜,
在相邻的所述凸条部及所述金属细线之间的区域,形成有没有填充所述保护膜的空隙部。
5.如权利要求1~4中任一项所述的偏振元件,其特征在于,
覆盖相邻的所述凸条部及所述金属细线的所述保护膜,在所述空隙部的上部接触并且覆盖所述空隙部。
6.如权利要求1~5中任一项所述的偏振元件,其特征在于,
所述保护膜由透光性的绝缘性材料形成。
7.如权利要求1~6中任一项所述的偏振元件,其特征在于,
所述金属细线使用选自硅、锗、铬、钼中的形成材料而形成。
8.一种偏振元件的制造方法,对在基板的一面侧以平面视大致成条纹状所设置的多个凸条部、从相对于所述一面斜方向堆积金属材料,由所述凸条部的表面所堆积的细线状的金属膜形成多个金属细线,其特征在于,包括:
从与所述凸条部的延伸方向相交的第一方向,对所述凸条部的一侧面堆积金属材料,形成多个第一细线的工序;
从与所述第一方向在被投影到所述基板表面的方位正相反的第二方向,对所述凸条部的另一侧面堆积金属材料而形成多个第二细线,由此形成具有所述第一细线和所述第二细线的所述金属细线的工序。
9.如权利要求8所述的偏振元件的制造方法,其特征在于,
具备形成对所述多个金属细线的周围进行覆盖的保护膜的工序,
在形成所述保护膜的工序中,使用CVD法,在相邻的所述凸条部及所述金属细线之间的区域形成没有填充所述保护膜的空隙部。
10.一种投射型显示装置,其特征在于,具有:
将光射出的照明光学系统;
对所述光进行调制的液晶光阀;
由所述液晶光阀调制的光所入射的、权利要求1~7中任一项所述的偏振元件;和
将透过所述偏振元件后的偏振光的光投射到被投射面的投射光学系统。
11.一种液晶装置,其特征在于,
通过在一对基板间夹持有液晶层而成,在所述一对基板中的至少一基板的所述液晶层侧形成有权利要求1~7中任一项所述的偏振元件。
12.一种电子设备,其特征在于,
具备权利要求11中所述的液晶装置。
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