[发明专利]曝光装置及图像形成装置有效

专利信息
申请号: 201010131488.3 申请日: 2010-03-04
公开(公告)号: CN101825768A 公开(公告)日: 2010-09-08
发明(设计)人: 中村贤二 申请(专利权)人: 株式会社理光
主分类号: G02B26/12 分类号: G02B26/12
代理公司: 上海市华诚律师事务所 31210 代理人: 杨暄;吕静姝
地址: 日本东京都大*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 曝光 装置 图像 形成
【权利要求书】:

1.一种曝光装置,包括:

光偏转器,将从多个光源射出的多个光束朝着相对包含回转轴的平面对向的两方向偏 转扫描;

至少一个折返部件,设在上述光偏转器和各被扫描面之间,将由上述光偏转器偏转的 光束导向被扫描部件;以及

至少一个光学成像单元,设在各光路上,将由上述光偏转器偏转的光束聚光到被扫描 部件上;

上述光学成像单元在副扫描截面,包括一个至少设有两组由入射面及射出面的组构成 的一对光学面的光学元件,上述多个光束之中至少两个光束分别通过所述光学元件的不同 的一对光学面。

2.根据权利要求1所述的曝光装置,其特征在于:

上述光学成像单元之中,至少一个光学成像单元在副扫描截面,设有上述两组由入射 面及射出面的组构成的一对光学面。

3.根据权利要求1或2所述的曝光装置,其特征在于:

上述光学成像单元系具有fθ特性的透镜。

4.根据权利要求1或2所述的曝光装置,其特征在于:

由上述光偏转器偏转的多个光束之中,被导向到靠近上述光偏转器回转轴侧的被扫描 部件的光束,通过上述折返部件朝着离开被扫描部件的方向折返后,被导向被扫描部件。

5.根据权利要求1或2所述的曝光装置,其特征在于:

上述光偏转器具有多个偏转反射面,上述多个光束在副扫描截面中,相对上述光偏转 器的偏转反射面的法线平行入射。

6.根据权利要求1或2所述的曝光装置,其特征在于:

上述多个光束分别在各不相同的上述光偏转器的偏转反射面被偏转。

7.根据权利要求1或2所述的曝光装置,其特征在于:

上述多个光束之中至少两个光束在上述光偏转器的相同偏转反射面被偏转。

8.根据权利要求1或2所述的曝光装置,其特征在于:

上述多个光束在副扫描截面中,相对光偏转器的偏转反射面的法线,带有角度入射。

9.根据权利要求8所述的曝光装置,其特征在于:

上述光学成像单元由设在各光路的第一透镜和与所述第一透镜构成不同的第二透镜 两个透镜构成,所述第一透镜在副扫描截面,设有上述两组由入射面及射出面的组构成的 一对光学面。

10.根据权利要求8所述的曝光装置,其特征在于:

上述多个光束之中,设在向靠近上述光偏转器回转轴侧的被扫描部件扫描的光路上的 上述光学成像单元由第一透镜构成,所述第一透镜在副扫描截面,设有上述两组由入射面 及射出面的组构成的一对光学面,设在向离上述光偏转器回转轴远侧的被扫描部件扫描的 光路上的上述光学成像单元由所述第一透镜和与所述第一透镜构成不同的第二透镜构成。

11.一种图像形成装置,对像载置体实行充电、曝光、显影的电子照相处理,在上述像 载置体上形成图像,其特征在于:

具备权利要求1-10中任一个所述的曝光装置,作为实行上述电子照相处理之中的曝 光处理的单元,对作为被扫描部件的上述像载置体实行曝光。

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